具有旋转箔陷阱和驱动组件的碎片减缓装置

    公开(公告)号:CN101960386A

    公开(公告)日:2011-01-26

    申请号:CN200980106737.9

    申请日:2009-02-25

    CPC classification number: G03F7/70916 G03F7/70808

    Abstract: 本发明涉及一种用于与辐射源(2)一起使用的碎片减缓装置,该辐射源生成光学辐射,特别是超紫外辐射(EUV)和/或软x射线,并且发射会沉积在所述辐射源(2)的辐射路径内的光学表面上的不期望的物质和/或颗粒;并且本发明涉及相应的驱动组件。该碎片减缓装置包含至少一个旋转箔陷阱(5)和该驱动组件。驱动组件包含驱动电机(14)和驱动轴(10),旋转箔陷阱(5)固定到该驱动轴。驱动电机(14)和支撑驱动轴(10)的轴承(13)封在壳体(20)内,该壳体具有用于驱动轴(10)的开孔和用于密封气体的至少一个出口开口(21)。出口开口(21)可连接到泵以用于抽出该密封气体。开孔设计成限定驱动轴(10)和壳体(20)之间的间隙(23),其中所述间隙(23)连接到供应管(19),以用于通过所述间隙(23)将密封气体供应到所述壳体(20)内。所提出的碎片减缓装置允许使用常规的驱动电机和施油或润滑的轴承,而没有污染在其中使用碎片减缓装置的真空腔的风险。这导致驱动组件增加使用寿命。

    具有改进气体分布的碎片抑制系统

    公开(公告)号:CN101218543A

    公开(公告)日:2008-07-09

    申请号:CN200680021245.6

    申请日:2006-06-06

    CPC classification number: G03F7/70916 G03F7/70883 G03F7/70908 G03F7/70933

    Abstract: 本发明涉及一种碎片抑制系统,尤其是用在用于EUV辐射和/或X射线的辐射单元中的系统。该碎片抑制系统包括一种箔捕获装置(11),所述箔捕获装置(11)具有多个允许直路辐射的通道,以及一个或几个用于缓冲气体(7)的气体供应的进给管道(5),所述气体供应提供给所述箔捕获装置。该箔捕获装置具有至少一个延伸分布几个所述通道的内部空间(14),其中所述进给管道向该空间开口。本碎片抑制系统能有效地抑制碎片。

    用于以高功率操作的包括轮盖的气体放电源的转轮式电极装置

    公开(公告)号:CN101796892B

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN200880105991.2

    申请日:2008-08-14

    CPC classification number: H01J1/88 H05G2/005

    Abstract: 本发明涉及用于气体放电源的电极装置(1,2)和具有一个或两个所述电极装置(1,2)的气体放电源。该电极装置(1,2)包括可绕旋转轴线(22)沿旋转方向旋转的电极轮(7),所述电极轮(7)具有在两个侧表面(25)之间的外周向表面(24)。提供电极轮盖(8),电极轮盖(8)覆盖该电极轮(24)的外周向表面(24)的一部分和侧表面(25)的一部分。该盖(8)被设计成在该盖(8)、该外周向表面(24)与该侧表面(25)的径向外部之间沿周向形成冷却通道(12),并且沿周向在该冷却通道(12)的延伸范围中在该盖(8)与该外周向表面(24)之间形成间隙(23)。该间隙(23)具有小于该冷却通道(12)的流动截面并在电极轮(7)旋转期间限制形成于该外周向表面(24)上的液体材料膜的厚度。作为间隙(23)的替代,该盖(8)可被设计成抑制流经该冷却通道(12)的液体材料形成这种膜。该冷却通道(12)同时允许通过该冷却通道(12)进行循环的液体材料来冷却电极轮(7)。利用所提出的盖(8)的设计,实现该电极轮(7)的有效冷却,允许以高电功率来操作带有这种电极装置的气体放电源。

    用于以高功率操作的包括轮盖的气体放电源的转轮式电极装置

    公开(公告)号:CN101796892A

    公开(公告)日:2010-08-04

    申请号:CN200880105991.2

    申请日:2008-08-14

    CPC classification number: H01J1/88 H05G2/005

    Abstract: 本发明涉及用于气体放电源的电极装置(1,2)和具有一个或两个所述电极装置(1,2)的气体放电源。该电极装置(1,2)包括可绕旋转轴线(22)沿旋转方向旋转的电极轮(7),所述电极轮(7)具有在两个侧表面(25)之间的外周向表面(24)。提供电极轮盖(8),电极轮盖(8)覆盖该电极轮(24)的外周向表面(24)的一部分和侧表面(25)的一部分。该盖(8)被设计成在该盖(8)、该外周向表面(24)与该侧表面(25)的径向外部之间沿周向形成冷却通道(12),并且沿周向在该冷却通道(12)的延伸范围中在该盖(8)与该外周向表面(24)之间形成间隙(23)。该间隙(23)具有小于该冷却通道(12)的流动截面并在电极轮(7)旋转期间限制形成于该外周向表面(24)上的液体材料膜的厚度。作为间隙(23)的替代,该盖(8)可被设计成抑制流经该冷却通道(12)的液体材料形成这种膜。该冷却通道(12)同时允许通过该冷却通道(12)进行循环的液体材料来冷却电极轮(7)。利用所提出的盖(8)的设计,实现该电极轮(7)的有效冷却,允许以高电功率来操作带有这种电极装置的气体放电源。

    具有清洁装置的光学系统

    公开(公告)号:CN100573334C

    公开(公告)日:2009-12-23

    申请号:CN200580024824.1

    申请日:2005-07-18

    CPC classification number: G03F7/70916 G03F7/70925 G03F7/70933

    Abstract: 用于光学系统并且特别是用于设计为用于EUV辐射的光学系统的清洁装置。该清洁装置具有用于反应气体(29)的气体入口(28)。通过反应气体分离已经沉积在光学元件(110)的表面上的污染物(23)。还提供了优选地与要清洁的表面相对地布置的吸气剂表面(32),通过吸气剂表面(32)吸收从这些表面分离的污染物。此吸收可以由于凝结在吸气剂表面上并且也可以通过化学反应发生。

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