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公开(公告)号：CN1615535A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN02827167.X
申请日：2002-12-20
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·T·A·阿佩茨 , T·R·穆尔德里 , L·J·A·M·贝克尔斯
CPC classification number: H01J61/363
Abstract: 一种高压放电灯，该放电灯设置有带有陶瓷壁(1)的放电容器(10)，该放电容器在一端由插塞(2)封闭。该插塞设置有布置在该放电容器内的电极(3)。该陶瓷壁(1)和该插塞(2)由熔接连接部(4)来连接。该熔接连接部(4)包括大致包含钼和铝的合金。优选的是，该熔接连接部(4)包括从由Al8Mo3，Al63Mo37，Al63Mo37，AlMo，AlMo3，以及所述材料的组合物形成的一组中选择的材料。优选的是，该插塞(2)包括从由钼、钨、和所述材料的组合物形成的一组中选择的材料。优选的是，该陶瓷壁(1)包括氮化铝。依据本发明，该插塞(2)具有高耐腐蚀性。
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公开(公告)号：CN1668549A
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：CN03816334.9
申请日：2003-07-02
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： M·P·B·范布鲁根 , R·T·A·阿佩茨 , T·A·科普 , A·科雷尔 , T·胡茨勒
IPC: C04B35/115 , H01J61/30 , C04B35/645
CPC classification number: H01J61/302 , C04B35/115 , C04B35/6455
Abstract: 本发明涉及高度密实的半透明和透明的氧化铝组件，供应用于例如照明工业，其中为在800℃或更高温度使用必须要得到细小晶粒并使之稳定。披露了高强度的多晶矾土产品，若在800℃或更高温度使用，则它们包括用0.001－0.5重量％ZrO2稳定的粒度＜2μm而最好＜1μm的细小晶粒。此微结构呈现极高的相对密度，能使对样品厚度0.8mm并用λ最好为645nm单色波长光越过最大0.5°孔径角所测量的实际轴向透光度有＞30％之高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101681114A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200780053335.8
申请日：2007-06-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G02B5/0816 , B82Y10/00 , C23C14/34 , C23C14/3492 , C23C16/52 , G02B5/0891 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G21K1/06
Abstract: 本发明涉及光学设备和原位处理所述光学设备中的反射EUV和/或软X射线辐射的光学部件(2，6，13)的方法，所述光学部件(2，6，13)设置在所述光学设备的真空室(14)中并且包括一个或多个具有一种或多种表面材料的顶层的反射表面(3)。在该方法中，在所述光学设备的所述室(14)中提供所述一种或多种表面材料的源(1，5)，并且在所述光学设备的操作期间和/或操作暂停期间将来自所述源(1，5)的表面材料沉积到所述一个或多个反射表面(3)上，以便覆盖或取代沉积的污染物材料和/或补偿消融的表面材料。
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公开(公告)号：CN101390453A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200480037540.1
申请日：2004-12-13
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H05G2/00
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70916
Abstract: 描述了一种用于产生由等离子体(26)发射的特别是EUV辐射(12)和/或软X射线辐射(12a)的方法。等离子体(26)是由放电空间(14)中的工作气体(22)形成的，所述放电空间(14)包括至少一个辐射发射窗口(16)和具有至少一个阳极(18)和至少一个阴极(20)的电极系统。该电极系统借助于被引入到放电空间(14)中的电荷载体(24)而将电能传输给等离子体(26)。为了得到以高重复频率可靠地点燃等离子体(26)，建议将由至少一个辐射源(28)产生的辐射(30)引入到放电空间(14)中以便使得可获得放电载荷(24)。
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公开(公告)号：CN101681114B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200780053335.8
申请日：2007-06-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G02B5/0816 , B82Y10/00 , C23C14/34 , C23C14/3492 , C23C16/52 , G02B5/0891 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G21K1/06
Abstract: 本发明涉及光学设备和原位处理所述光学设备中的反射EUV和/或软X射线辐射的光学部件(2，6，13)的方法，所述光学部件(2，6，13)设置在所述光学设备的真空室(14)中并且包括一个或多个具有一种或多种表面材料的顶层的反射表面(3)。在该方法中，在所述光学设备的所述室(14)中提供所述一种或多种表面材料的源(1，5)，并且在所述光学设备的操作期间和/或操作暂停期间将来自所述源(1，5)的表面材料沉积到所述一个或多个反射表面(3)上，以便覆盖或取代沉积的污染物材料和/或补偿消融的表面材料。
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公开(公告)号：CN101390453B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200480037540.1
申请日：2004-12-13
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H05G2/00
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70916
Abstract: 描述了一种用于产生由等离子体(26)发射的特别是EUV辐射(12)和/或软X射线辐射(12a)的方法。等离子体(26)是由放电空间(14)中的工作气体(22)形成的，所述放电空间(14)包括至少一个辐射发射窗口(16)和具有至少一个阳极(18)和至少一个阴极(20)的电极系统。该电极系统借助于被引入到放电空间(14)中的电荷载体(24)而将电能传输给等离子体(26)。为了得到以高重复频率可靠地点燃等离子体(26)，建议将由至少一个辐射源(28)产生的辐射(30)引入到放电空间(14)中以便使得可获得放电载荷(24)。
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公开(公告)号：CN100369859C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN03816334.9
申请日：2003-07-02
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： M·P·B·范布鲁根 , R·T·A·阿佩茨 , T·A·科普 , A·科雷尔 , T·胡茨勒
IPC: C04B35/115 , H01J61/30 , C04B35/645
CPC classification number: H01J61/302 , C04B35/115 , C04B35/6455
Abstract: 本发明涉及高度密实的半透明和透明的氧化铝组件，供应用于例如照明工业，其中为在800℃或更高温度使用必须要得到细小晶粒并使之稳定。披露了高强度的多晶矾土产品，若在800℃或更高温度使用，则它们包括用0.001-0.5重量%ZrO2稳定的粒度＜2μm而最好＜1μm的细小晶粒。此微结构呈现极高的相对密度，能使对样品厚度0.8mm并用λ最好为645nm单色波长光越过最大0.5°孔径角所测量的实际轴向透光度有＞30%之高。
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