公开(公告)号：CN100504610C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200510054227.5

申请日：2005-02-08

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： P·C·杜恩埃维德 ,  P·迪克森 ,  A·Y·科勒斯恩臣科 ,  H·范桑坦

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开一种湿浸光刻装置，其中电压发生器将势差施加到与浸液接触的一物件上，使得由于浸液中气泡表面的动电电势的原因，浸液中的气泡和/或粒子被物件吸引或被物件排斥。

公开(公告)号：CN1683999A

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN200510054227.5

申请日：2005-02-08

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： P·C·杜恩埃维德 ,  P·迪克森 ,  A·Y·科勒斯恩臣科 ,  H·范桑坦

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开一种湿浸光刻装置，其中电压发生器将势差施加到与浸液接触的一物件上，使得由于浸液中气泡表面的动电电势的原因，浸液中的气泡和/或粒子被物件吸引或被物件排斥。

公开(公告)号：CN1625814A

公开(公告)日：2005-06-08

申请号：CN03803115.9

申请日：2003-01-29

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·C·杜恩埃维德 ,  J·F·迪克斯曼

IPC: H01L51/40 ,  H01L51/20

CPC classification number: H01L51/0005 ,  H01L27/3246 ,  H01L27/3283 ,  H01L51/0014 ,  H01L51/52

Abstract: 本发明提供一种矩阵衬底，用于控制印刷在所述衬底上的液体，以及制造这种衬底的方法。按照本发明，用可变形的和可弯曲的材料制造用于保持用于接收和保持印刷的液体的像素矩阵的衬底，这使得升高结构(隔离物)能够分开要在衬底材料本身中形成的像素。这使得能够利用许多新的制造方法制造矩阵衬底，所述衬底例如用于polyLED显示器。按照本发明的制造材料和方法还消除了按照现有技术的制造材料和方法存在的对于设计自由度的许多限制。这使得能够形成具有悬垂结构的隔离物轮廓，改善了分辨率和新的尺寸范围。

公开(公告)号：CN1557020A

公开(公告)日：2004-12-22

申请号：CN02818634.6

申请日：2002-09-06

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·C·杜恩埃维德

IPC: H01L27/00 ,  H01L27/15 ,  G09G3/32

CPC classification number: H01L27/3246 ,  H01L27/3283 ,  H01L51/0005

Abstract: 一种薄膜光学器件的组件，包括基板(1；25)和淀积在基板(1；25)上、留有间距以形成容纳材料的多条沟道(8－10；15－17；30；31；36－38；40－42)的多个长条形挡堤(4；14，21－24；26－28；35；39)。至少一条沟道(15－17；30；31；36－38；40－42)沿着该沟道(15－17；30；31；36－38；40－42)在至少一个位置处局部展宽，以限定淀积一定量(18－20)材料的部位。一种制造电致发光显示器件的方法，其特征在于，通过选择这种组件，并且沿着沟道(15－17；30；31；36－38；40－42)仅仅在淀积部位处淀积包括有机电致发光材料(3)在内的一定量或多量(18－20)材料。一种有机电致发光显示器件包括这样的组件。