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公开(公告)号：CN114094386A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111427195.4
申请日：2021-11-28
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
IPC分类号： H01R13/622 , H01R4/60
摘要： 本发明公开了一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，包括：静电吸盘，所述静电吸盘的上部设置有连接头与静电吸盘之间固定连接，所述连接头的内部设置有内螺纹孔，所述连接头的上部设置有铜棍且铜棍的顶部设置有插接头，所述插接头与偏置匹配器之间相连接。本发明将铜条部分更换成铜棍，其横截为圆形，面积更大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生电腐蚀的几率；偏置匹配器端将接头和铜棍合体，这样减少了一个腐蚀部位；将静电吸盘端做成分离结构，使得连接头依旧可以固定在静电吸盘背面，另一端可以通过螺纹拧进去，这样如果铜棍另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘。
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公开(公告)号：CN114086152A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111499889.9
申请日：2021-12-09
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明实施例提出一种化学气相沉积设备，所述设备包括：远程等离子体源；反应室；真空泵；用于连接该远程等离子体源和该反应室的进气管道，主清洁气体通过该进气管道从该远程等离子体源进入该反应室；用于连接该反应室和该真空泵的排气管道；该进气管道上有一支路管道，接入支路清洁气体。进一步地，该排气管道呈入口端窄，出口端宽的形状。本发明提供的改进，有效提高了吹扫进气管道内壁上的沉积物形成的污染物的效率，还提高了清洁效率，从而延长了进行预防性维护的周期，也就是增加了单位时间内设备得到有效使用的时间，因此大幅降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN114141568B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202111427198.8
申请日：2021-11-28
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种薄膜生长设备腔体的电动开关装置，包括：装置本体，装置本体的底部安装有底座，装置本体的顶面中部形成有内腔，装置本体的上方设置有上盖，装置本体的侧壁上固定连接有电动摇杆组件；电动摇杆组件包括固定盒、电机、托块和电动马达，电动马达和固定盒均与装置本体侧壁固定连接，且固定盒设置在电动马达的外侧，电机安装在固定盒的底部，电机的动力输出端和电动马达的动力输入端分别安装有齿轮且两个齿轮啮合连接。本发明通过电动的方式来代替现有技术中人工操作，电动摇杆操作简单，只需要点击遥感器上的开关就可以控制腔体的开关，遥感器有电源延长线，可以做到不接触腔体来控制腔体开关，避免了一些突发状况的发生。
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公开(公告)号：CN114046941B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202111427204.X
申请日：2021-11-28
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于涡轮分子泵薄膜生长设备的测漏阀门系统,包括闸口阀和涡轮增压阀，所述涡轮增压阀的底部内及外部之间设置有涡轮隔离阀，所述涡轮隔离阀上设置有转接装置，所述转接装置包括转接头和手动阀，所述手动阀的两端分别设置有连接管一和连接管二，所述转接头与连接管一之间以及连接管二内均设置有中心圈，所述转接头与连接管一之间的外部上以及连接管二的外部上均设置有卡箍，所述连接管二内与卡箍之间设置有闷板。本发明通过转接装置，可便捷的将氦气测漏仪与涡轮隔离阀相连接，无需将涡轮增压泵停止，节省了涡轮增压泵的停止和运行的时间，提升了工作效率。
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公开(公告)号：CN114046941A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111427204.X
申请日：2021-11-28
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于涡轮分子泵薄膜生长设备的测漏阀门系统,包括闸口阀和涡轮增压阀，所述涡轮增压阀的底部内及外部之间设置有涡轮隔离阀，所述涡轮隔离阀上设置有转接装置，所述转接装置包括转接头和手动阀，所述手动阀的两端分别设置有连接管一和连接管二，所述转接头与连接管一之间以及连接管二内均设置有中心圈，所述转接头与连接管一之间的外部上以及连接管二的外部上均设置有卡箍，所述连接管二内与卡箍之间设置有闷板。本发明通过转接装置，可便捷的将氦气测漏仪与涡轮隔离阀相连接，无需将涡轮增压泵停止，节省了涡轮增压泵的停止和运行的时间，提升了工作效率。
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公开(公告)号：CN114141568A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111427198.8
申请日：2021-11-28
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种薄膜生长设备腔体的电动开关装置，包括：装置本体，装置本体的底部安装有底座，装置本体的顶面中部形成有内腔，装置本体的上方设置有上盖，装置本体的侧壁上固定连接有电动摇杆组件；电动摇杆组件包括固定盒、电机、托块和电动马达，电动马达和固定盒均与装置本体侧壁固定连接，且固定盒设置在电动马达的外侧，电机安装在固定盒的底部，电机的动力输出端和电动马达的动力输入端分别安装有齿轮且两个齿轮啮合连接。本发明通过电动的方式来代替现有技术中人工操作，电动摇杆操作简单，只需要点击遥感器上的开关就可以控制腔体的开关，遥感器有电源延长线，可以做到不接触腔体来控制腔体开关，避免了一些突发状况的发生。
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公开(公告)号：CN216585199U
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202123083021.9
申请日：2021-12-09
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本实用新型实施例提出一种化学气相沉积设备，所述设备包括：远程等离子体源；反应室；真空泵；用于连接该远程等离子体源和该反应室的进气管道，主清洁气体通过该进气管道从该远程等离子体源进入该反应室；用于连接该反应室和该真空泵的排气管道；该进气管道上有一支路管道，接入支路清洁气体。进一步地，该排气管道呈入口端窄，出口端宽的形状。本实用新型提供的改进，有效提高了吹扫进气管道内壁上的沉积物形成的污染物的效率，还提高了清洁效率，从而延长了进行预防性维护的周期，也就是增加了单位时间内设备得到有效使用的时间，因此大幅降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN212175035U
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202022714795.6
申请日：2020-11-23
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/50
摘要： 本申请涉及一种用于化学气相沉积设备的气体喷淋头组件，其包括固定连接在穹顶的顶部盖板，顶部盖板靠近晶片的一侧固定设置有底部盖板，底部盖板远离顶部盖板的侧面设置有朝晶片延伸的电极板；顶部盖板开设有多个第一气孔，第一气孔的内缘朝向底部盖板延伸有第一气道，底部盖板开设有与第一气孔对应的第二气孔，第一气道伸入第二气孔内，顶部盖板与底部盖板之间的区域为第二气道；电极板开设有与第二气孔对应的反应孔；顶部盖板远离底部盖板的一侧设有第一气源，第一气源向第一气道供第一气体，第二气道连接有第二气源，第二气源向第二气道供第二气体；提高了晶圆片薄膜的均匀度。
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公开(公告)号：CN212152436U
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202022652618.X
申请日：2020-11-17
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
IPC分类号： C23C16/458
摘要： 本申请涉及一种化学气相沉积设备晶圆举起箍组件，其包括升降环和带动升降环位移的升降件，升降环远离升降件的一侧推动有装载环，装载环远离升降环的一侧可拆卸连接有多个提升销；多个提升销远离装载环的一端贯穿有位置固定的加热器，加热器限定提升销的路径；提升销的端部贯穿装载环并与装载环螺纹连接，装载环与升降环之间设置有阻止提升销端部与装载环接触的让位部。本申请具有延缓螺丝松动时间的效果。
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公开(公告)号：CN213624377U
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202022734344.9
申请日：2020-11-23
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本申请涉及一种等离子增强化学气相沉积设备薄膜均匀度调节装置，涉及晶圆薄膜均匀度调节装置领域,包括调节托盘、固定螺母槽、固定螺杆、调节螺母、第一防松螺母、反应外壳、反应腔、加热器和晶圆，调节托盘内部开设有容纳槽，容纳槽内壁压紧有调节螺母，调节托盘的一面开设有开口，容纳槽与固定螺母槽、开口连通且方向与调节螺母运动方向一致，固定螺杆远离开口的端面的位置设有调节刻度标识，调节刻度标识与调节托盘的端面对应。本申请具有对所沉积的薄膜精准控制的效果。
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