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公开(公告)号：CN117080156B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311345153.5
申请日：2023-10-18
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 , 盛吉盛精密技术(宁波)有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683
摘要： 本发明提供了一种用于晶圆检测的载台装置，包括底座、直驱旋转电机、旋转平台、三个第一升降机构、三个第一导向机构、真空吸盘等部件。本发明载台装置的旋转平台独立设置，由直驱旋转电机驱动；第一升降机构布置在旋转平台上，减少第一升降机构的负载，提高升降调焦响应速度；旋转平台和第一升降机构独立运行，不会相互影响，提高运动稳定性；由三个第一升降机构驱动真空吸盘运动，等边三角形的结构稳定性高，保证真空吸盘平稳运动；由三个第一导向机构对真空吸盘运动方向进行导向，且三个第一导向机构呈等边三角形布置，进一步提高了运动稳定性，从而保证检测精度，满足晶圆高精度检测需要。
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公开(公告)号：CN117074739B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311345176.6
申请日：2023-10-18
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 , 盛吉盛精密技术(宁波)有限公司
IPC分类号： G01R1/04
摘要： 本发明提供了一种用于晶圆检测的气浮运动装置，包括机架、基台、气浮承载座、Y轴运动模块、X轴运动模块。本发明的气浮运动装置采用独立的气浮承载座支撑载物台移动，Y轴运动模块直接以基台作为气浮工作面，X轴运动模块整体堆叠设置在Y轴运动模块上，Y轴运动模块和X轴运动模块均采用气浮轴承实现气浮式移动，装置整体刚度高，承载能力强，运动稳定性好，可以满足晶圆高精度检测要求。
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公开(公告)号：CN113755812B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202111087652.X
申请日：2021-09-16
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种改善物理气相沉积金属氮化物薄膜方阻均匀性的装置，包括腔体组件,腔体组件周侧设置安装有冷泵,冷泵底端设置安装有高度调节组件,高度调节组件内设置安装有卡合组件,高度调节组件后方设置安装有高度限位组件，腔体组件包括腔壳,腔壳顶端设置有与腔壳卡合连接的腔壳顶盖,腔壳外侧固定安装有进气口。本发明通过设置有两个进气口，使得工艺气体Ar和N2在腔体中保持均匀分布，沉积出的金属氮化薄膜方阻均匀性最优，通过设置有高度调节组件和高度限位组件，可以调节冷泵的打开程度，从而控制腔体压力，优化工艺在腔体中分布的均匀性,这样便提高了金属氮化物薄膜方阻均匀性，提高产品稳定性，提高产品良率。
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公开(公告)号：CN114792640A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202210303065.8
申请日：2022-03-24
申请人： 盛吉盛半导体科技(北京)有限公司 , 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/223
摘要： 本发明涉及一种晶圆掺氮装置，包括衬板、腔体以及抽气部，衬板设置于腔体的内部并与腔体的底部之间形成空间，抽气部与该空间连通，衬板上开设有多个通孔，多个通孔被构造成随着与抽气部的距离的增加，多个通孔的孔径增大。本发明能够提高晶圆掺氮装置的腔体内的气压均衡性。
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公开(公告)号：CN113755812A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111087652.X
申请日：2021-09-16
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种改善物理气相沉积金属氮化物薄膜方阻均匀性的装置，包括腔体组件,腔体组件周侧设置安装有冷泵,冷泵底端设置安装有高度调节组件,高度调节组件内设置安装有卡合组件,高度调节组件后方设置安装有高度限位组件，腔体组件包括腔壳,腔壳顶端设置有与腔壳卡合连接的腔壳顶盖,腔壳外侧固定安装有进气口。本发明通过设置有两个进气口，使得工艺气体Ar和N2在腔体中保持均匀分布，沉积出的金属氮化薄膜方阻均匀性最优，通过设置有高度调节组件和高度限位组件，可以调节冷泵的打开程度，从而控制腔体压力，优化工艺在腔体中分布的均匀性,这样便提高了金属氮化物薄膜方阻均匀性，提高产品稳定性，提高产品良率。
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公开(公告)号：CN117031865A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310948309.2
申请日：2023-07-31
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 , 盛吉盛精密技术(宁波)有限公司
摘要： 本发明提供一种同一光路切换双相机光路装置和方法，装置包括设置于相机座上的第一相机和第二相机，装置设有可活动的反射镜，通过改变反射镜的位置使得入射光束分别位于第一相机和第二相机的入射光路。方法包括把入射光束设置于第一相机的入射光路上，移动反射镜至远离第一相机的镜头，入射光束入射至第一相机的镜头；移动反射镜至第二相机的入射光路上，入射光束通过反射镜反射至第二相机的镜头。本发明通过活动机构改变第一棱镜和第二棱镜的位置，使得入射光束分别位于第一相机和第二相机的入射光路，从而使得同一路光路入射至两个相机时光线清晰，并且结构简单，降低了成本以及调试难度。
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公开(公告)号：CN114602401A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210216131.8
申请日：2022-03-07
申请人： 盛吉盛半导体科技(北京)有限公司 , 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种硅反应装置，包括腔体以及抽气部，抽气部设置于腔体的底部的中央并与腔体连通，抽气部包括阀板、连杆、抽气管道以及驱动组件，连杆的第一端与阀板固定连接，驱动组件与连杆的第二端连接以驱动连杆做升降运动，阀板用于在连杆的作用下开启或关闭抽气管道。本发明能够提高腔体内硅晶圆表面的气体的均匀性，同时能够调控腔体内的压力，使得压力趋于平稳。
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公开(公告)号：CN113560985B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111132143.4
申请日：2021-09-27
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 , 盛吉盛精密制造(绍兴)有限公司
摘要： 本发明涉及半导体制造设备，公开了一种半导体石英部件可变径倒角机，包括机架、转动安装于机架上的旋转台，旋转台上开设有多个围绕旋转台中心分布且长度沿旋转台直径方向延伸的滑行槽，滑行槽长度方向的延长线相交于旋转台的转动中心，旋转台上安装有倒角块，倒角块之间分布于同一个圆上并在滑行槽内沿滑行槽的长度方向移动，且在旋转台上设置有用于调节倒角块之间相互距离的调节机构；本发明可调节式的倒角块能够根据待加工石英部件的尺寸变化调整相互之间的距离，从而适应不同尺寸石英部件的倒角需求；而联动机构能够实现倒角块之间的同步进、退，使倒角块之间不管如何调整位置均位于同一个圆上，从而使得石英部件的倒角更加精准。
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公开(公告)号：CN113522860B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111071443.6
申请日：2021-09-14
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 , 盛吉盛精密制造(绍兴)有限公司
摘要： 本发明涉及半导体加工设备，公开了一种半导体石英部件清洗设备，包括机架、转动安装于机架上且中心带有升降口的摆放台、设置于机架上且位于摆放台一侧的外管壁清洗装置以及升降设置于机架内且位于升降口下方的内管壁清洗装置，所述内管壁清洗装置包括升降台、安装于升降台上的顶喷头和侧喷头，所述顶喷头的出水方向朝向机架上方，所述侧喷头的出水方向朝向机架侧方，且所述侧喷头分布于顶喷头的两侧；本发明顶喷出水的冲洗方式能够让将石英部件上残留的脏污随水流被带走，从而大大提高石英部件的清洗效果，减少水渍的产生。
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公开(公告)号：CN113629002A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202110950730.8
申请日：2021-08-18
申请人： 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , C30B25/12 , C30B23/02
摘要： 本发明公开了一种外延膜生长设备的基座支撑装置及其使用方法，包括外延膜生长机体，外延膜生长机体的内部安装有下石英钟罩且顶部水平设置有上石英圆盘，外延膜生长机体与上石英圆盘之间对称设置有两组加紧机构，上石英圆盘与下石英钟罩之间形成有加工内腔，加工内腔的内部设置有基座支撑机构，基座支撑机构包括安装于外延膜生长机体底部的旋转电机和安装于旋转电机动力输出端的基座支撑架，基座支撑架由支撑杆和支撑手臂组成，支撑手臂分设有三组且均匀加工成型于支撑杆的顶部。本发明对支撑手臂的头部形状进行了改进，弃用了三个支撑销，使得支撑架手臂直接与基座连接，节省了材料，节约了成本，改善了手臂与基座间的固定性能，提高了产品良率。
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