用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统的校准

    公开(公告)号:CN101689222A

    公开(公告)日:2010-03-31

    申请号:CN200880015308.6

    申请日:2008-05-06

    CPC classification number: G01J3/443 G01J3/28 G01J2003/2866

    Abstract: 本发明涉及一种在故障检验和过程监测中使用的光谱设备辐射校准系统和方法。首先,将参考摄谱仪校准到本地基本标准(具有已知光谱强度和可追溯到参考标准的经校准的光源)。然后根据参考摄谱仪而非本地基本校准标准来校准其它摄谱仪。这通过用参考摄谱仪和待校准的摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准的摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较,然后进行调整以与该输出一致。当前的校准过程能分两个阶段完成,第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪,然后在等离子腔室微调到窄带光源。作为替代,参考摄谱仪能校准到本地基本标准而光学耦合到等离子腔室。在此,本地基本标准校准光源临时定位在等离子腔室内、或者在沿着腔室内部布置的光腔室中,用于校准参考摄谱仪。当耦合到具有本地基本标准校准光源的等离子腔室时,其它摄谱仪能校准到参考摄谱仪,从而将整个光学路径中的每个组件校准到参考光源。

    用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统的校准

    公开(公告)号:CN101689222B

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN200880015308.6

    申请日:2008-05-06

    CPC classification number: G01J3/443 G01J3/28 G01J2003/2866

    Abstract: 本发明涉及一种在故障检验和过程监测中使用的光谱设备辐射校准系统和方法。首先,将参考摄谱仪校准到本地基本标准(具有已知光谱强度和可追溯到参考标准的经校准的光源)。然后根据参考摄谱仪而非本地基本校准标准来校准其它摄谱仪。这通过用参考摄谱仪和待校准的摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准的摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较,然后进行调整以与该输出一致。当前的校准过程能分两个阶段完成,第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪,然后在等离子腔室微调到窄带光源。作为替代,参考摄谱仪能校准到本地基本标准而光学耦合到等离子腔室。在此,本地基本标准校准光源临时定位在等离子腔室内、或者在沿着腔室内部布置的光腔室中,用于校准参考摄谱仪。当耦合到具有本地基本标准校准光源的等离子腔室时,其它摄谱仪能校准到参考摄谱仪,从而将整个光学路径中的每个组件校准到参考光源。

    用于在反应环境中的视口窗口上减少窗口模糊效应的方法和装置

    公开(公告)号:CN101681802A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880016054.X

    申请日:2008-04-29

    CPC classification number: H01J37/32477 H01J37/3244 H01J37/32449

    Abstract: 本发明提供了多通道阵列结构和一种机制,用于在多通道阵列中建立粘滞流来阻止导致窗口模糊的微粒流入。提供反应腔室用于将反应压力限制在反应容积中,沿着该腔室具有视口窗口用于查看至少部分反应容积。在反应腔室中设置有进入口,连接至反应容积,用于在反应容积中接收反应气体,而排出口设置在反应腔室中,连接至反应容积用于从反应容积提取出气体流。多通道阵列(MCA)设置在视口窗口和反应腔室的反应容积之间。MCA具有多个通道,每个通道具有直径和长度。窗口腔室限制在视口窗口和MCA之间,具有腔室窗口开口用于接收气体进入腔室容积。在MCA的通道的窗口侧形成粘滞流阻止微粒进入窗口腔室和附着在窗口上。通过腔室窗口开口提高窗口腔室的压力来建立粘滞流,其中窗口腔室压力超出了反应压力,但不足以充分地提高反应容积的气体流动的速率。粘滞流速率实际上低于反应气体流入反应容积的速率。

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