多模式可配置光谱仪
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108881746B

    公开(公告)日:2021-05-21

    申请号:CN201810298098.1

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供多模式可配置光谱仪、操作多模式可配置光谱仪的方法及光学监测系统。在一个实施例中,所述多模式可配置光谱仪包含:(1)光学传感器,其经配置以接收光学输入且将所述光学输入转换成电信号,其中所述光学传感器包含用于将所述光学输入转换成所述电信号的多个有源像素区域;及(2)转换电路,其具有多个可选择转换电路,所述转换电路经配置以接收所述电信号且根据所述可选择转换电路中的所选择者将所述电信号转换成数字输出。

    操作工艺控制系统的方法及工艺控制系统

    公开(公告)号:CN110223932B

    公开(公告)日:2022-11-29

    申请号:CN201810759285.5

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中,所述工艺控制系统包含:(1)光学传感器,其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据;(2)操作控制器,其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况,其中所述关键功能是由关键功能控件引导;(3)可适应性管理控制器,其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器,其中在所述关键功能期间,所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。

    操作工艺控制系统的方法及工艺控制系统

    公开(公告)号:CN110223932A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201810759285.5

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中,所述工艺控制系统包含:(1)光学传感器,其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据;(2)操作控制器,其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况,其中所述关键功能是由关键功能控件引导;(3)可适应性管理控制器,其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器,其中在所述关键功能期间,所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。

    多模式可配置光谱仪
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113218935B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202110490515.4

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供多模式可配置光谱仪、操作多模式可配置光谱仪的方法及光学监测系统。在一个实施例中,所述多模式可配置光谱仪包含:(1)光学传感器,其经配置以接收光学输入且将所述光学输入转换成电信号,其中所述光学传感器包含用于将所述光学输入转换成所述电信号的多个有源像素区域;及(2)转换电路,其具有多个可选择转换电路,所述转换电路经配置以接收所述电信号且根据所述可选择转换电路中的所选择者将所述电信号转换成数字输出。

    多模式可配置光谱仪
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113218935A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110490515.4

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供多模式可配置光谱仪、操作多模式可配置光谱仪的方法及光学监测系统。在一个实施例中,所述多模式可配置光谱仪包含:(1)光学传感器,其经配置以接收光学输入且将所述光学输入转换成电信号,其中所述光学传感器包含用于将所述光学输入转换成所述电信号的多个有源像素区域;及(2)转换电路,其具有多个可选择转换电路,所述转换电路经配置以接收所述电信号且根据所述可选择转换电路中的所选择者将所述电信号转换成数字输出。

Patent Agency Ranking