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公开(公告)号：CN108109938B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201711127994.3
申请日：2017-11-14
Applicant: 真实仪器公司
Abstract: 本申请案涉及一种光学校准装置及表征系统。本发明提供一种用于对与处理室相关联的光学信号进行室内校准的光学校准装置、一种用于等离子体处理室的表征系统、表征等离子体处理室的方法及一种室表征器。在一个实例中，所述光学校准装置包含：(1)外壳，(2)光学源，其位于所述外壳内且经配置以提供具有连续光谱的源光，及(3)光学塑形元件，其位于所述外壳内且经配置以在所述处理室内的操作期间将所述源光成形为近似于等离子体发射的校准光。
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公开(公告)号：CN108109938A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201711127994.3
申请日：2017-11-14
Applicant: 真实仪器公司
CPC classification number: G01N21/274 , G01J3/2823 , G01J3/443 , G01N21/66 , H01J37/32963 , H01J37/32972 , H01J2237/2482 , H01L21/681 , H01L22/26 , H05H1/0006
Abstract: 本申请案涉及一种光学校准装置及表征系统。本发明提供一种用于对与处理室相关联的光学信号进行室内校准的光学校准装置、一种用于等离子体处理室的表征系统、表征等离子体处理室的方法及一种室表征器。在一个实例中，所述光学校准装置包含：(1)外壳，(2)光学源，其位于所述外壳内且经配置以提供具有连续光谱的源光，及(3)光学塑形元件，其位于所述外壳内且经配置以在所述处理室内的操作期间将所述源光成形为近似于等离子体发射的校准光。
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公开(公告)号：CN110223932B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN201810759285.5
申请日：2018-07-11
Applicant: 真实仪器公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中，所述工艺控制系统包含：(1)光学传感器，其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据；(2)操作控制器，其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况，其中所述关键功能是由关键功能控件引导；(3)可适应性管理控制器，其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器，其中在所述关键功能期间，所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。
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公开(公告)号：CN110223932A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201810759285.5
申请日：2018-07-11
Applicant: 真实仪器公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中，所述工艺控制系统包含：(1)光学传感器，其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据；(2)操作控制器，其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况，其中所述关键功能是由关键功能控件引导；(3)可适应性管理控制器，其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器，其中在所述关键功能期间，所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。
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