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公开(公告)号:CN103443026A
公开(公告)日:2013-12-11
申请号:CN201280014055.7
申请日:2012-03-07
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: B01J20/28085 , A23L33/10 , A23L33/16 , A24D3/163 , A41D13/11 , A61K9/143 , A61K9/70 , A61K33/44 , B01J20/20 , B01J20/28035 , B01J20/28064 , B01J20/28069 , B01J20/28078 , B01J20/28083 , B01J20/3078 , B01J20/3085 , B01J2220/485 , C01B32/324 , C01B32/336 , C02F1/283 , C02F1/288 , C12M25/14
Abstract: 本发明的目的在于提供一种多孔碳材料,其能够有效地吸附期望的物质。本发明的多孔碳材料以泥煤为原料,并且由非定域密度函数理论法得到的直径为1×10-8m~2×10-7m的微孔的总体积为0.5cm3/g或更高,或者由BJH法得到的微孔的体积为0.5cm3/g或更高。
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公开(公告)号:CN101931051B
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201010205349.0
申请日:2010-06-17
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: H01L51/0558 , H01L51/0004 , H01L51/0018 , H01L51/0541 , H01L51/0545
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管和用于制造薄膜晶体管的方法。该薄膜晶体管包括:栅极电极,其布置在衬底上;半导体层,其由有机半导体形成,并构成沟道区域;栅极绝缘膜,其布置在所述栅极电极与所述半导体层之间;以及一对源极/漏极电极,其电连接至所述半导体层。所述半导体层包括突起部分,所述突起部分在所述半导体层的与所述衬底面对的表面上的、除所述半导体层的端部附近区域之外的内侧区域朝向所述衬底突起。
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公开(公告)号:CN101819359B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201010126151.3
申请日:2010-02-25
Applicant: 索尼公司
IPC: G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/133553 , G02F1/133504
Abstract: 本发明提供形成反射电极的方法、驱动基板和显示装置。形成反射电极的方法包括如下步骤:在基板的电极形成区域的第一区域中形成第一催化层;通过进行第一无电镀敷处理,在第一催化层上形成第一镀敷层;至少在电极形成区域的第一区域之外的区域(第二区域)中形成第二催化层;以及通过进行第二无电镀敷处理,在第二催化层上形成第二镀敷层,从而反射电极形成为具有凹凸表面。
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公开(公告)号:CN101931051A
公开(公告)日:2010-12-29
申请号:CN201010205349.0
申请日:2010-06-17
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: H01L51/0558 , H01L51/0004 , H01L51/0018 , H01L51/0541 , H01L51/0545
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管和用于制造薄膜晶体管的方法。该薄膜晶体管包括:栅极电极,其布置在衬底上;半导体层,其由有机半导体形成,并构成沟道区域;栅极绝缘膜,其布置在所述栅极电极与所述半导体层之间;以及一对源极/漏极电极,其电连接至所述半导体层。所述半导体层包括突起部分,所述突起部分在所述半导体层的与所述衬底面对的表面上的、除所述半导体层的端部附近区域之外的内侧区域朝向所述衬底突起。
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公开(公告)号:CN101819359A
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN201010126151.3
申请日:2010-02-25
Applicant: 索尼公司
IPC: G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/133553 , G02F1/133504
Abstract: 本发明提供形成反射电极的方法、驱动基板和显示装置。形成反射电极的方法包括如下步骤:在基板的电极形成区域的第一区域中形成第一催化层;通过进行第一无电镀敷处理,在第一催化层上形成第一镀敷层;至少在电极形成区域的第一区域之外的区域(第二区域)中形成第二催化层;以及通过进行第二无电镀敷处理,在第二催化层上形成第二镀敷层,从而反射电极形成为具有凹凸表面。
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