摄像元件和摄像装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114616822A

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202080063513.0

    申请日:2020-07-27

    摘要: 减小了包括布置在半导体基板的后表面上的光电转换单元的摄像元件的暗电流。该摄像元件包括:光电转换单元、贯通电极、电荷保持单元、后面侧高杂质浓度区域以及前面侧高杂质浓度区域。光电转换单元被布置在半导体基板的后表面上并且对入射光进行光电转换。贯通电极形成从半导体基板的后表面贯穿到前表面的形状,并且传输通过光电转换产生的电荷。电荷保持单元被布置在半导体基板的前表面上,并且保持传输的电荷。后面侧高杂质浓度区域被布置在半导体基板的后表面上的与贯通电极相邻的区域中,并且形成为杂质浓度比与半导体基板的中央部的贯通电极相邻的区域的杂质浓度更高。前面侧高杂质浓度区域被布置在半导体基板的前表面上的与贯通电极相邻的区域中,并且形成为杂质浓度比与半导体基板的中央部的贯通电极相邻的区域的杂质浓度更高。

    半导体装置及用于制造半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN116569332A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202280007855.X

    申请日:2022-01-17

    IPC分类号: H01L23/522

    摘要: 本发明降低了具有贯通电极的半导体装置中的热应力。该半导体装置设置有半导体基板、布线层、第一通孔和第一内贯通电极。在半导体装置中,布线层形成在半导体基板的上表面上。此外,在半导体装置中,第一通孔从半导体基板的背面延伸穿到半导体基板的上表面,并具有被绝缘膜覆盖的侧壁。此外,在半导体装置中,第一内贯通电极是沿着第一通孔的侧壁的一部分形成的。

    图像传感器和成像装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114556573A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202080071501.2

    申请日:2020-09-15

    IPC分类号: H01L27/146 H04N5/369

    摘要: 本发明提高了图像传感器的感度。所述图像传感器包括多个像素和遮光壁。包括在所述图像传感器中的多个像素各自包括配置在半导体基板上并对照射的入射光执行光电转换的光电转换单元以及将入射光会聚到所述光电转换单元上的片上透镜。包括在所述图像传感器中的遮光壁在所述多个像素之间的边界处与所述半导体基板相邻配置并且被构造成使得所述遮光壁的入射光照射侧具有锥形截面以遮挡入射光。

    半导体装置和半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111712905A

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN201880089302.7

    申请日:2018-12-28

    发明人: 重歳卓志

    摘要: 在形成用于布置贯通电极的过孔时防止对半导体装置的损坏。所述半导体装置包括柱形绝缘膜、前表面侧焊盘、导体层和后表面侧焊盘。所述柱形绝缘膜被构造为贯穿半导体基板的柱形形状。所述前表面侧焊盘被形成为在所述柱形绝缘膜内侧与所述半导体基板的前表面相邻。在去除与所述前表面侧焊盘相邻的所述柱形绝缘膜内侧的所述半导体基板之后,所述导体层被布置为与所述柱形绝缘膜的内侧和所述前表面侧焊盘相邻。所述后表面侧焊盘被布置在所述半导体基板的后表面上,并且经由所述导体层被连接至所述前表面侧焊盘。