公开(公告)号：CN120060827A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202411474490.9

申请日：2024-10-22

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵妿罗 ,  姜锺和 ,  李㥥滥 ,  崔炳斗 ,  崔恩赫 ,  李晟圭 ,  郑达密

IPC: C23C16/458 ,  H01L21/67 ,  G03F7/16

Abstract: 提供一种排气装置和衬底处理设备。排气装置包括：碗，设置成在支承并且旋转衬底的支承单元的周围；排气管道，配置为围绕所述碗的侧部并且连接到所述碗的所述侧部；以及排放管道，在所述支承单元的旋转方向上形成在所述排气管道的外部。

公开(公告)号：CN118280876A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202311588621.1

申请日：2023-11-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金周援 ,  朴崠云 ,  郑志宪 ,  崔炳斗 ,  赵妿罗 ,  朴柊奕

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开提供了利用激光来处理半导体基板的基板处理装置及包括其的半导体制造设备。基板处理装置包括：腔室，用于提供处理基板的空间；支承模块，设置在腔室内，并且用于支承基板；以及激光信号生成模块，设置在腔室中，并且用于将激光信号传送到基板上从而对基板进行热处理，其中，激光信号生成模块对包括光刻胶层的基板进行热处理。

公开(公告)号：CN116364590A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211688632.2

申请日：2022-12-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵妿罗 ,  郑雨信 ,  金海京 ,  金大成

IPC: H01L21/67 ,  B05D3/02 ,  B05D3/00 ,  B25J11/00 ,  B01D19/00

Abstract: 提供了一种用于处理基板的设备，该基板处理设备可以包括：喷嘴，所述喷嘴将化学溶液供应至基板；以及化学溶液供应装置，其将所述化学溶液供应至所述喷嘴，所述化学溶液供应装置可以包括：泵构件；溶解气提取喷嘴，其设置在流路上并且通过喷洒方式来喷洒所述化学溶液，其中所述化学溶液通过所述流路被引入所述泵构件中；以及控制单元，被配置用于控制所述泵构件的操作。

公开(公告)号：CN116230502A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211540954.2

申请日：2022-12-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴崠云 ,  郑志宪 ,  吴镇泽 ,  金泰信 ,  金周援 ,  赵妿罗 ,  崔炳斗

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明提供了用于处理基板的装置和用于处理基板的方法，并且，具体地提供了一种用于处理基板的方法。该用于处理基板的方法包括：加热形成有多个薄膜层的基板，该多个薄膜层包括形成在表面上的光刻胶层；以及将光照射到该多个薄膜层中的第一薄膜层以加热该第一薄膜层，所述第一薄膜层包括金属。

公开(公告)号：CN118259553A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311736327.0

申请日：2023-12-18

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜锺和 ,  丁宣旭 ,  李㥥滥 ,  崔炳斗 ,  赵妿罗 ,  朴崠云

IPC: G03F7/16

Abstract: 本公开提供了一种基板处理装置，其包括：处理单元，包括处理容器和支承单元，处理容器具有内部空间，支承单元被配置成在内部空间中支承基板并且使基板在第一旋转方向上旋转；以及排气单元，被配置成从内部空间排出气体，其中，排气单元包括为从内部空间排出的气体提供排气路径的排气管以及将处理容器连接到排气管的一个或更多个连接件，且排气管的一端关闭，在排气管的另一端处形成有打开的出口以排出气体。

公开(公告)号：CN115763303A

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202211080277.0

申请日：2022-09-05

Applicant: 细美事有限公司 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 高定奭 ,  赵妿罗 ,  朴炯旼 ,  朴林峰 ,  李柱范 ,  李政镇

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及气泡测量单元、包含其的基板处理设备及气泡测量方法，具体涉及一种用于处理基板的设备。所述设备包含将液体供应至基板的液体供应单元、由透光材料形成且安装于设置在所述液体供应单元中的组件上且提供检查区域的盖、及检查在设置于所述检查区域中的所述组件中流动的所述液体中所含有的气泡的检查单元。所述检查单元包含从所述盖外部朝向所述检查区域施加光的光源、位于所述盖外部且接收穿过所述检查区域的所述光的光接收零件、及从由所述光接收零件接收到的所述光中检查所述气泡的检查零件。

公开(公告)号：CN117410200A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202310535261.2

申请日：2023-05-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金大城 ,  林在玄 ,  尹教相 ,  张镐镇 ,  赵妿罗

IPC: H01L21/67 ,  B08B9/032

Abstract: 本申请涉及用于处理衬底的装置。用于处理衬底的装置包括：处理容器，设置在处理室中并且包括处理空间，衬底容纳在处理空间中；液体提供管线，配置成通过将处理液提供到处理空间中的衬底来处理衬底；排放管线，连接到处理容器并且配置成排放处理空间中的气体；喷射部分，设置在排放管线上并且配置成喷射清洁液以去除积聚在排放管线中的污染物；以及清洗液排出管线，从排放管线分支并且在其中包括抽吸部分，以抽吸包括通过清洁液从排放管线去除的污染物的清洁液废物并且将清洁液废物排出到外部。

公开(公告)号：CN116889746A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310043502.1

申请日：2023-01-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵妿罗 ,  高定奭 ,  朴在训 ,  张镐镇 ,  李正悦 ,  徐庚进 ,  郑雨信

IPC: B01D19/00

Abstract: 本发明涉及一种液体捕集罐和用于捕集液体的方法，所述液体捕集罐可以包括：罐体，配置为具有形成在所述罐体中的能够容纳液体的容纳空间，具有形成在所述罐体的一部分中的流入单元并且具有形成在所述罐体的另一部分中的排出单元；第一容纳部分，形成在所述罐体内部并且配置为初次且暂时地容纳所述液体使得气泡从通过所述流入单元引入的所述液体中被分离；以及第二容纳部分，形成在所述罐体内部并且配置为第二次且暂时地容纳从所述第一容纳部分移动的所述液体或者通过所述排出单元将移动的所述液体排出到外部。