制造拼接件制品的方法和拼接件制品

    公开(公告)号:CN110068882B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201910113775.2

    申请日:2015-11-18

    IPC分类号: G02B5/124 B29D11/00

    摘要: 本申请公开了制造拼接件制品的方法和拼接件制品。该方法包括在主基材基材上形成棱镜阵列并形成主基材的复制品。在复制品上形成参考边,从而减小了棱镜阵列的尺寸,同时保持了复制品的横向尺寸以保持对复制品的处理的容易性。复制复制品并且暴露复制的拼接件上的参考边,使得参考边可以与其他拼接件上的参考边面对面地配对并固定,以形成拼接的制品。拼接的制品用作模具以制造逆反射制品,或者可以进一步复制和配合以形成用作模具的较大的拼接的制品。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。

    制造制品的方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110065250B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201910113796.4

    申请日:2015-11-18

    IPC分类号: B29D11/00 G02B5/124

    摘要: 本申请公开了制造制品的方法。该方法包括在主基材基材上形成棱镜阵列并形成主基材的复制品。在复制品上形成参考边,从而减小了棱镜阵列的尺寸,同时保持了复制品的横向尺寸以保持对复制品的处理的容易性。复制复制品并且暴露复制的拼接件上的参考边,使得参考边可以与其他拼接件上的参考边面对面地配对并固定,以形成拼接的制品。拼接的制品用作模具以制造逆反射制品,或者可以进一步复制和配合以形成用作模具的较大的拼接的制品。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。

    制造拼接件制品的方法和拼接件制品

    公开(公告)号:CN110068882A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910113775.2

    申请日:2015-11-18

    IPC分类号: G02B5/124 B29D11/00

    摘要: 本申请公开了制造拼接件制品的方法和拼接件制品。该方法包括在主基材基材上形成棱镜阵列并形成主基材的复制品。在复制品上形成参考边,从而减小了棱镜阵列的尺寸,同时保持了复制品的横向尺寸以保持对复制品的处理的容易性。复制复制品并且暴露复制的拼接件上的参考边,使得参考边可以与其他拼接件上的参考边面对面地配对并固定,以形成拼接的制品。拼接的制品用作模具以制造逆反射制品,或者可以进一步复制和配合以形成用作模具的较大的拼接的制品。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。

    制造制品的方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110065250A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910113796.4

    申请日:2015-11-18

    IPC分类号: B29D11/00 G02B5/124

    摘要: 本申请公开了制造制品的方法。该方法包括在主基材基材上形成棱镜阵列并形成主基材的复制品。在复制品上形成参考边,从而减小了棱镜阵列的尺寸,同时保持了复制品的横向尺寸以保持对复制品的处理的容易性。复制复制品并且暴露复制的拼接件上的参考边,使得参考边可以与其他拼接件上的参考边面对面地配对并固定,以形成拼接的制品。拼接的制品用作模具以制造逆反射制品,或者可以进一步复制和配合以形成用作模具的较大的拼接的制品。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。

    多级切割的拼接式反光镜

    公开(公告)号:CN107000343B

    公开(公告)日:2020-05-26

    申请号:CN201580065942.0

    申请日:2015-11-18

    IPC分类号: B29D11/00 G02B5/124

    摘要: 用于制造逆反射制品的拼接件制品和模具的方法。该方法包括在主基材基材上形成棱镜阵列并形成主基材的复制品。在复制品上形成参考边,从而减小了棱镜阵列的尺寸,同时保持了复制品的横向尺寸以保持对复制品的处理的容易性。复制复制品并且暴露复制的拼接件上的参考边,使得参考边可以与其他拼接件上的参考边面对面地配对并固定,以形成拼接的制品。拼接的制品用作模具以制造逆反射制品,或者可以进一步复制和配合以形成用作模具的较大的拼接的制品。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。

    定向主动投射
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104246844B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201380018088.3

    申请日:2013-02-06

    IPC分类号: G08G1/095

    CPC分类号: G09F13/04 G08G1/095 H05B37/02

    摘要: 描述了定向主动投射设备,其包括提供信息图案的平面显示器。该平面显示器包括光透明区域和用于阻挡光透射的区域。该定向主动投射设备还包括靠近平面显示器布置的透镜,以及在透镜焦平面上布置成阵列的光源集合。还描述了控制定向主动投射设备的方法。

    制备可畸变的光学元件阵列的方法

    公开(公告)号:CN105445831A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201510815564.5

    申请日:2007-07-05

    IPC分类号: G02B5/124

    CPC分类号: G02B5/124

    摘要: 一种制备可畸变的光学元件(20)阵列(18)的方法。该方法包括的步骤是提供具有第一表面的基片,控制加工基片第一表面上的局部区域;其中第一表面上带有形成元件。控制加工的程度足以使围绕局部区域的受影响位置上的一个或多于一个形成元件发生畸变。