一种旋光器
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107479136B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN201710885808.6

    申请日:2017-09-26

    IPC分类号: G02B6/27

    摘要: 本发明公开了一种旋光器,包括:旋光体,旋光体的两端分别为第一通光端和第二通光端;旋光体的底面为一平面;旋光体内设置有至少两个凹槽,凹槽之间通过中间体间隔;半波片,其设置在旋光体的凹槽内,半波片的光轴与旋光体竖截面或旋光体横截面之间的夹角为22.5°;及法拉第旋转片,其设置在旋光体的第二通光端。通过上述方式,本发明通过凹槽的设置形成磁场,与半波片、法拉第旋转片组合成独立的旋光单元,每个凹槽可实现独立的旋光功能,互不影响;同时作为一个整体,减少了组装的步骤,稳定性好,可靠性高。

    一种旋光器
    2.
    发明公开
    一种旋光器 审中-实审

    公开(公告)号:CN107479136A

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201710885808.6

    申请日:2017-09-26

    IPC分类号: G02B6/27

    CPC分类号: G02B6/2753

    摘要: 本发明公开了一种旋光器,包括:旋光体,旋光体的两端分别为第一通光端和第二通光端;旋光体的底面为一平面;旋光体内设置有至少两个凹槽,凹槽之间通过中间体间隔;半波片,其设置在旋光体的凹槽内,半波片的光轴与旋光体竖截面或旋光体横截面之间的夹角为22.5°;及法拉第旋转片,其设置在旋光体的第二通光端。通过上述方式,本发明通过凹槽的设置形成磁场,与半波片、法拉第旋转片组合成独立的旋光单元,每个凹槽可实现独立的旋光功能,互不影响;同时作为一个整体,减少了组装的步骤,稳定性好,可靠性高。

    一种用于硅片刻蚀的载具

    公开(公告)号:CN211654786U

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202020475111.9

    申请日:2020-04-03

    IPC分类号: H01L21/673 H01L21/67

    摘要: 本实用新型公开了一种用于硅片刻蚀的载具,包括:上盖、托底、第一侧体、第二侧体、第三侧体和第四侧体;上盖设置在托底的上方,托底上设置有通孔;第一侧体、第二侧体、第三侧体和第四侧体设置在上盖和托底之间,第一侧体和第三侧体相对设置,第二侧体和第四侧体相对设置;第一侧体和第三侧体设置为镂空结构,第二侧体和第四侧体的相向面设置有插槽,第二侧体上插槽的位置与第四侧体上插槽的位置相适配,硅片插入插槽内水平放置。通过上述方式,本实用新型能够在刻蚀过程中水平放置硅片,提高硅片表面的光滑度和平整性,减少硅片槽内的异物残留,有效保证刻蚀效果,避免二次刻蚀,提高刻蚀效率。

    一种多工光隔离器
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207181870U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721245632.X

    申请日:2017-09-26

    IPC分类号: G02F1/09 G02B27/28

    摘要: 本实用新型公开了一种多工光隔离器,包括:光隔离支座和光隔离组件;光隔离支座阵列分布有多个嵌入槽;光隔离组件设置在光隔离支座的嵌入槽内;光隔离支座内设置有凹槽,容置粘合光隔离组件;光隔离组件沿光路方向依次设置有作为入光面的第一偏振分光装置、偏振旋转装置和作为出光面的第二偏振分光装置;第一偏振分光装置和第二偏振分光装置通过粘结剂粘贴在偏振旋转装置的两面;第一偏振分光装置的偏振方向平行于基准面,第二偏振分光装置的偏振方向与基准面成45度夹角。通过上述方式,本实用新型中光隔离支座可提供稳定的磁场,每个光隔离组件可实现独立的光隔离功能,尤其适用于集成器件上需要耦合组装多个光隔离器,大大提高了效率。

    一种用于两个旋光器组装的磁块

    公开(公告)号:CN207051529U

    公开(公告)日:2018-02-27

    申请号:CN201720365711.8

    申请日:2017-04-10

    IPC分类号: G02B6/27

    摘要: 本实用新型公开了一种用于两个旋光器组装的磁块,所述磁块呈山字型,所述山字型磁块上设有两个凹槽,所述两个凹槽的空间均能够放置1个旋光器;所述两个凹槽内的磁场方向是相互平行的;所述山字型磁块的两个凹槽之间的结构的厚度在0.3-1.5cm之间;所述山字型磁块的高度是在0.8-2.5cm之间;所述山字型磁块的厚度在0.6-1.5cm之间。通过上述方式,本实用新型能够实现两个旋光器并行组装,磁块体积小,组装时不存在磁场排斥力,组装方便高效;并且可以将光学产品体积做到更小。

    一种旋光器
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207281333U

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:CN201721245580.6

    申请日:2017-09-26

    IPC分类号: G02B6/27

    摘要: 本实用新型公开了一种旋光器,包括:旋光体,旋光体的两端分别为第一通光端和第二通光端;旋光体的底面为一平面;旋光体内设置有至少两个凹槽,凹槽之间通过中间体间隔;半波片,其设置在旋光体的凹槽内,半波片的光轴与旋光体竖截面或旋光体横截面之间的夹角为22.5°;及法拉第旋转片,其设置在旋光体的第二通光端。通过上述方式,本实用新型通过凹槽的设置形成磁场,与半波片、法拉第旋转片组合成独立的旋光单元,每个凹槽可实现独立的旋光功能,互不影响;同时作为一个整体,减少了组装的步骤,稳定性好,可靠性高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种适用于离心甩干的硅片装载装置

    公开(公告)号:CN212257362U

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202021320767.X

    申请日:2020-07-08

    发明人: 王正兴 苏奎

    IPC分类号: H01L21/673

    摘要: 本实用新型公开了一种适用于离心甩干的硅片装载装置,包括:篮筐、盖板、夹板和限位板;篮筐包括两个相对设置的固定板,固定板之间通过连接板连接,两个固定板上相对设置有固定槽;盖板设置在固定板的上方,盖板与固定板铰连接;夹板设置在盖板面向篮筐的一面,夹板内设置有凹槽,凹槽的位置与固定槽的位置相适配;限位板设置在篮筐的底部。通过上述方式,本实用新型能够能够有效避免硅片与篮筐之间摩擦而导致脱膜,能够避免硅片与清洗机机台内的定位柱接触碰撞而导致硅片碎片,减少硅片的损坏,有效保证硅片质量。

    一种光隔离器
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207181748U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721245576.X

    申请日:2017-09-26

    IPC分类号: G02B6/27

    摘要: 本实用新型公开了一种光隔离器,包括:第一偏振片、法拉第旋光片、第二偏振片和光隔离体;第一偏振片和第二偏振片分别设置在法拉第旋光片的两面,第一偏振片设置在法拉第旋光片的入射面,第二偏振片设置在法拉第旋光片的出射面;第二偏振片的通偏振光的方向和第一偏振片的通偏振光的方向的交角为45°;光隔离体内设置有凹槽,第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片设置在光隔离体的凹槽内;光隔离体的底面为平面。通过上述方式,本实用新型将光隔离器的底面设置为平面,增大了光隔离器与基片的接触面积,两者的粘接更加稳固,提高了产品可靠性;同时,有利于小型化集成光器件的组装,特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件。

    一种用于光学元件的光轴调节装置

    公开(公告)号:CN206649203U

    公开(公告)日:2017-11-17

    申请号:CN201720365260.8

    申请日:2017-04-10

    IPC分类号: G02B7/00

    摘要: 本实用新型公开了一种用于光学元件的光轴调节装置,所述光轴调节装置包括:承载台、磁环,所述承载台上设有凹槽,所述凹槽的宽度小于所述磁环的外径;所述凹槽的深度大于所述磁环的壁厚;所述凹槽呈圆柱面弧形凹槽。通过上述方式,本实用新型能够使磁环稳定的固定在承载台上,方便光学元件调节光轴;并且磁环可以顺畅的旋转角度,利于光轴调节;磁环在承载台上粘结稳固,可靠性好。