一种激光器封装定位装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118367431A

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202410444659.X

    申请日:2024-04-15

    IPC分类号: H01S5/02355 H01S5/024

    摘要: 本发明涉及一种激光器封装定位装置。本发明包括封装底座;所述封装底座的顶部固定连接有支撑柱;所述支撑柱的顶端固定连接有滑架;通过设置放置顶盘用于放置堆叠到热沉板的芯片以及热沉板,并可由往复丝杆带动移动台横向移动,同时滑口架可在滑架上进行纵向移动,从而实现了移动台可在同一个平面内进行调节,从而实现定位的作用,当调节定位结束后,则后续不用再进行调节,只需要通过电动伸缩杆带动放置顶盘上下移动,用于对接壳体进行封装和重新放置堆叠到热沉板的芯片以及热沉板,在大量进行封装工作时不需要反复进行调整,降低了工作强度,也由于不需要反复调整,减少了多次定位的时间,进而提高了封装的效率。

    一种可调式自准直仪光路系统及光路调试方法

    公开(公告)号:CN117824543A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202311860233.4

    申请日:2023-12-31

    摘要: 本发明涉及可调式自准直仪光路系统及光路调试方法,该系统包括自准直仪、分光棱镜、孔径光阑、反射镜、平面反射镜、CCD模块、成像面模块、相机,平面反射镜位于反射镜的反射光路上,CCD模块设置在分光棱镜的反射光路上,成像面模块位于平面反射镜背面,相机所拍摄的光斑形貌并判断出射光源的倾斜角度。本发明的一方面自准直仪整体结构是入射光路与反射光路同轴的调试需求和功能模块化设计的,实现了动态的平面度测量,调节过程简便,调试时间减少,调试效率提高,同时通过计算机监视反射光斑与出射光斑位置与形貌,提高自准直仪的测量精度;另一方面自准直仪中各模块不仅便于安装调试,而且相同模块能够相互置换,便于自准直仪的维修。

    基于碟片增益介质的激光再生放大器

    公开(公告)号:CN112886371A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110307975.9

    申请日:2021-03-23

    发明人: 颜永振

    IPC分类号: H01S3/06 H01S3/042

    摘要: 本发明公开了一种基于碟片增益介质的激光再生放大器包括种子光源、光纤耦合准直模块、再生放大谐振腔、泵浦模块和光隔离器,再生放大谐振腔包括包括第一偏振片、法拉第旋转器、1/2波片、第二偏振片、普克尔盒、1/4波片、第一腔镜、第三腔镜、第四腔镜、第五腔镜、碟片增益介质、第七腔镜和第八腔镜,所述第一腔镜、第三腔镜和第五腔镜为凹面镜,所述第四腔镜、第七腔镜和第八腔镜为平面镜。本发明的种子光在再生放大谐振腔内往复振荡,每次经过碟片增益介质后能量都得到放大,具有更低的热透镜效应,放大效率线性化程度和脉冲稳定性高,并能保证极高的光束质量。

    一种基于碟片晶体的泵浦装置及碟片激光器

    公开(公告)号:CN117791282A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311860077.1

    申请日:2023-12-31

    摘要: 本发明公开了一种基于碟片晶体的泵浦装置及碟片激光器,泵浦装置包括泵浦腔及设置在泵浦腔内的碟片晶体、抛物面反射镜、多程通道反射模块、泵浦源光纤接口及整形模块,整形模块为光轴重合的第一透镜和第二透镜,其均为非球面透镜;第一透镜为凸面背向抛物面反射镜的平凸透镜,第二透镜为凹面背向抛物面反射镜的平凹透镜;第一透镜的凸面的曲率半径范围为12.5‑18.4mm,第二透镜的凹面的曲率半径范围为‑89mm至‑78.25mm;第一透镜的凸面与光纤接口的光轴距离范围为2.5‑5mm;第一透镜与第二透镜的凹面的光轴距离范围为30‑46mm;第二透镜的第二平面与抛物面反射镜的顶点的光轴距离范围为145‑170mm。

    基于四象限传感器的激光光斑定位方法、系统及实验平台

    公开(公告)号:CN117739810A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311553650.4

    申请日:2023-11-21

    IPC分类号: G01B11/00

    摘要: 本发明公开了一种基于四象限传感器的激光光斑定位方法、系统及实验平台,激光光斑定位方法包括获取四象限传感器的四个象限的光电流信号并确定传感器坐标系xoy四个象限的光斑面积以及光斑的中心坐标(x0,y0)和半径;确定光斑在坐标系x轴和y轴方向的光面积差值;并根据光面积差值确定光斑的中心的梯度大小和梯度方向;若光斑的中心的梯度大小大于预设的梯度阈值,则基于光斑的中心的梯度大小和梯度方向α(x0,y0)对光斑中心坐标进行修正,以获得光斑的实际中心坐标(Δx,Δy),Δx=x0+rcos(α(x0,y0)),Δy=y0+rsin(α(x0,y0))。本发明能够精确实时地计算光斑偏移量,提高激光定位精度和定位速度。

    碟片晶体及其键合方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115425502A

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202211053397.1

    申请日:2022-08-31

    发明人: 颜永振 刘备

    IPC分类号: H01S3/06

    摘要: 本发明涉及一种碟片晶体及其键合方法,碟片晶体的键合方法包括以下步骤:提供增益晶体、键合晶体以及过渡层;将增益晶体、过渡层以及键合晶体依次层叠固定为一体,得到预制晶体;对预制晶体进行热压处理;对热压处理之后的预制晶体进行冷却处理,得到碟片晶体。本发明提供的键合方法得到的碟片晶体,由于过渡层的存在,碟片晶体在键合过程中不受增益晶体与键合晶体二者晶体热膨胀系数差异的影响,显著降低晶体温升,减小碟片晶体的应力和表面变形,极大地改善键合后的碟片晶体表面形貌和牢固性,防止碟片晶体在使用过程中出现开裂等不良现象,提高碟片晶体的使用寿命。

    一种一体化泵浦装置、碟片激光器及其安装方法

    公开(公告)号:CN114583531B

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210442466.1

    申请日:2022-04-26

    摘要: 本发明公开了一种一体化泵浦装置、碟片激光器及其安装方法,泵浦装置包括底座、泵浦腔,泵浦腔安装在底座上,泵浦腔内设有抛物面镜和折转镜,泵浦装置还包括碟片冷却模块,碟片冷却模块包括冷却筒和增益碟片,碟片冷却模块安装在泵浦腔外壁上且冷却筒和增益碟片伸入到泵浦腔内,碟片设置在冷却筒伸入泵浦腔的一端上;泵浦腔外壁上还设有泵浦源耦合模块,其包括连接端口和泵浦调节螺钉,连接端口被配置为与泵浦源光纤的尾端配合,泵浦调节螺钉被配置为自泵浦源耦合模块的外部伸入其内部以调节泵浦源光纤的尾端在连接端口内的方位。本发明中碟片冷却模块、泵浦源耦合模块与泵浦腔组装成一体,泵浦腔与底座组装成一体的同时,确保泵浦方向的可调性。

    一种半导体激光器抗冲击试验装置

    公开(公告)号:CN118329604A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410442675.5

    申请日:2024-04-12

    IPC分类号: G01N3/04 G01N3/30 G01M11/08

    摘要: 本发明涉及一种半导体激光器抗冲击试验装置。本发明包括工作台,所述工作台顶部固定连接有安装框,所述安装框内滑动连接有滑动块,通过连接块会在第二弹簧自身弹性恢复力的作用下复位,从而带动两组连接块相互靠近,并带动两组固定板同时向半导体激光器移动,直至与半导体激光器贴合,此时在第二弹簧的弹性力作用下,会对半导体进行夹持定位,将其固定在撞击杆底部,通过如此设置,在撞击杆对半导体激光器的外壳进行撞击时,半导体激光器受到两组固定板的固定,从而避免了半导体激光器在冲击力的作用下弹起并出现位移的情况,保证半导体激光器的撞击位置不会出现偏移,从而保证抗冲击试验的正常进行。

    一种可实现激光光束匀化准直的光学系统

    公开(公告)号:CN118023696A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202311767513.0

    申请日:2023-12-21

    摘要: 本发明涉及可实现激光光束匀化准直的光学系统,其包括沿光的传播路径依序设置的激光光源、光束准直单元以及光束整形单元,其中光束整形单元为双面符合偶次非球面面型的厚透镜,或者光束整形单元为双非球面薄透镜;或者光束整形单元为三片及以上非球面透镜组合;入射光束为具有发散角的高斯光束,经过光束准直单元后平行出射,同时平行高斯光束再经过光束整形单元以实现光强高斯分布转换为平顶分布。本发明一方面不仅能量转换效率高,光斑均匀度高,而且体积小、结构紧凑、加工成本低;另一方面可实现在X,Y方向上高斯光束转化为平顶光束,同时输出光斑为圆光斑,且输出光为平行光,此外,还能够实现任意尺寸的匀化光斑,实用性强。

    一种可变间距式多光束曝光加工系统及方法

    公开(公告)号:CN117415446A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311562151.1

    申请日:2023-11-22

    IPC分类号: B23K26/06 B23K26/064

    摘要: 本发明涉及可变间距式多光束曝光加工系统及方法,其系统包括微透镜阵列和激光缩束单元,激光缩束单元包括第一、二、三光学柱面镜,其中微透镜阵列和第一光学柱面镜之间为固定光学间距;第一光学柱面镜与第二光学柱面镜之间、第二光学柱面镜与第三光学柱面镜之间为可变间距。本发明一方面在某一个固定光学间距设定下,通过同样参数柱面镜所形成的变倍缩束和各光学间距调节,使光束缩小倍率为4x‑6x、多光束之间间距在3.9‑6.1mm的激光加工之需;另一方面在中心对齐、外径逐级变小的光学元件布局下,不仅实现等光斑间距的线型光斑输出,而且能够改善激光加工效率,同时操作方便,结构简单,体积小。