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公开(公告)号：CN101100156A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
摘要： 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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公开(公告)号：CN101290364A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123711.2
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 陈林森 , 周小红
摘要： 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为：分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜；将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面，根据画素的排列位置，采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置，使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面，调整照射位置并重复上述过程，实现同一颜色的所有画素单元的转移；更换热转印薄膜，重复上述步骤，使四种颜色均实现转移，获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化，解决了传统方式需要高精度对位的问题，并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小；同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。
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公开(公告)号：CN101161400A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135195.0
申请日：2007-11-13
申请人： 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种制作导光板模仁的方法，根据导光均匀性的要求，在基材表面制备形成导光网点结构，其特征在于：所述基材为具有光滑表面的金属基材，所述导光网点结构的制备方法是，利用大功率脉冲激光器经整形光路聚焦于金属基材表面，直接刻蚀形成所需的导光网点结构，即获得用于射出成型或压印的导光板模仁；同时，利用制得的模仁作为母板，通过电铸工艺进行复制，制得适合导光板制作所需的凹型或凸型模仁。本发明不需要光阻剂涂布、曝光、显影等工艺，直接在光滑金属基板表面刻蚀，制作高精度导光模仁，整个工艺流程简便，制作精度高，大大缩短了制作周期，简化了工艺过程，降低了成本，具有更快的市场反应能力。
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公开(公告)号：CN101034183A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710038827.1
申请日：2007-03-30
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G02B6/00 , B23K26/00 , H01S3/00 , G02F1/1335
摘要： 本发明公开了一种导光板/导光膜模仁的制造方法，根据导光的需求，在导光基材表面制备形成导光网点结构，其特征在于：利用大功率脉冲激光器，经光束整形、准直聚焦直接在导光基材表面刻蚀导光网点，获得导光板基体，对刻蚀后的导光板基体表面进行金属化处理，再进行电铸，在表面沉积金属镍，将沉积的金属镍与导光基材分离，即获得所需的导光板/导光膜模仁。同时刻蚀后制得的导光板基体可直接用于背光模组，配置其他背光组件，可进行导光性能检测。本发明可快速进行网点设计评价和提供样品，在进行金属化处理和电铸工序后，即可制得导光板(膜)模仁，大大缩短了制作周期，简化了工艺过程，降低了成本，具有更快的市场反应能力。
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公开(公告)号：CN101030027A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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公开(公告)号：CN101162278A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135196.5
申请日：2007-11-13
申请人： 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G02B6/00 , G02F1/13357 , G02F1/1333
摘要： 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构，包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构，其特征在于：包括至少两层导光基材重叠组合构成，每层所述导光基材为厚度50um～150um的导光膜；各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补；其制作方法：(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度，确定多层组合的层数；(2)根据LED光源亮度数据及发光面积，确定初始的导光网点分布；(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整；(4)制作相应导光模仁小样；(5)制作各层导光膜，并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量，并有效地提高了发光均匀度，多层重叠结构获得更好的触感。
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公开(公告)号：CN100474101C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101131537B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101131537A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101034252A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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