一种双面TOPCOn电池的退火工艺
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118630097A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410769147.0

    申请日:2024-06-14

    摘要: 本发明公开一种双面TOPCon电池的退火工艺。将双面沉积多晶硅层的硅片于惰性气氛下,在600℃~1000℃进行第一次退火,得预退火硅片;将预退火硅片于氧气和水蒸气的混合气氛下,于200℃~400℃进行第二次退火,得退火硅片。本发明提供的双面TOPCon电池的退火工艺,通过对退火工艺进行改进,不但提高了电池的长波段光学响应,还有效降低了载流子在多晶硅中的复合,显著提高了双面TOPCon电池的短路电流和电池效率,除此之外,还可省去传统制备双面TOPcon电池的正面减薄工序,有效降低了双面TOPCon电池制备工艺的难度,具有较高的推广应用价值。