半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111697056A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010166766.2

    申请日:2020-03-11

    摘要: 公开了一种半导体器件,其包括具有第一掺杂类型的多个第一半导体层(110)和与第一掺杂类型互补的第二掺杂类型的多个第二半导体层(120)的层堆叠体。半导体器件还包括:邻接多个第一半导体层(110)的第一半导体器件(M1)的第一半导体区(15);第一半导体器件(M1)的至少一个第二半导体区(14),其中至少一个第二半导体区(14)中的每个邻接多个第二半导体层(120)中的至少一个,并且与第一半导体区(15)间隔开;以及第三半导体层(130),其邻接层堆叠体(110,120)以及第一半导体区(15)和至少一个第二半导体区(14)中的每个,其中第三半导体层(130)包括在第一方向(x)上布置在第一半导体区(15)和至少一个第二半导体区(14)之间的第一区域(131)。半导体器件还包括从第三半导体层(130)的第一表面(101)延伸到第一区域(131)中的第一或第二掺杂类型的第三半导体区(140,142)。