一种在钼或钼铼合金中引入111织构的方法

    公开(公告)号:CN116790928A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202310634834.7

    申请日:2023-05-31

    摘要: 本发明公开了一种在钼或钼铼合金中引入111织构的方法,该方法包括:一、将钼粉料依次进行压制、烧结,得到钼坯,或者将钼粉料和铼粉料混合后依次进行压制、烧结,得到钼铼合金坯;二、将钼坯或钼铼合金坯依次进行热挤压和轧制得到钼或钼铼合金锻棒;三、将钼或钼铼合金锻棒进行真空热处理得到再结晶态的钼或钼铼合金;五、将再结晶态的钼或钼铼合金进行高温压缩,在钼或钼铼合金中引入111织构。本发明通过对钼或钼铼合金成分选择和工艺设计,获得再结晶态的钼铼合金,然后通过高温压缩变形的方式,在钼或钼铼合金中引入111织构,从而使得钼或钼铼合金具有更高的结构稳定性和综合力学性能,工艺简便且易于操作。

    一种制备难熔高熵NbMoTaWRe纳米薄膜的方法

    公开(公告)号:CN117448772A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311402532.3

    申请日:2023-10-26

    IPC分类号: C23C14/56 C23C14/18 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种制备难熔高熵NbMoTaWRe纳米薄膜的方法,该方法包括:一、清洁NbMoTaW合金靶材、Re靶材及单晶Si基底;二、将清洁的NbMoTaW合金靶材、Re靶材和单晶Si基底安装至磁控溅射设备,得到装配磁控溅射设备;三、将装配磁控溅射设备抽真空,得到抽真空磁控溅射设备;四、将抽真空磁控溅射设备的直流电源和射频电源开启,进行预溅射,得到具有预溅射基底的真空磁控溅射设备;五、将具有预溅射基底的真空磁控溅射设备的直流电源和射频电源开启,进行溅射,在基底表面得到难熔高熵NbMoTaWRe纳米薄膜。本发明通过成分选择和工艺设计,高效制备了成分均匀的单相难熔高熵NbMoTaWRe纳米薄膜。

    一种调控钼铼合金变形孪晶密度的方法

    公开(公告)号:CN116574951A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310634510.3

    申请日:2023-05-31

    摘要: 本发明公开了一种调控钼铼合金变形孪晶密度的方法,该方法包括:一、将钼粉料和铼粉料混合后依次进行压制、烧结得到钼铼合金坯;二、将钼铼合金坯依次进行电弧熔炼和电子束熔炼得到钼铼合金铸锭;三、将钼铼合金铸锭依次进行热挤压和轧制得到钼铼合金锻棒;四、将钼铼合金锻棒进行真空热处理得到再结晶态的钼铼合金;五、将再结晶态的钼铼合金进行室温预拉伸变形或室温预压缩变形,获得不同密度的变形孪晶。本发明通过对钼铼合金成分选择和工艺设计,并结合室温预拉伸变形或室温预压缩变形,调控了钼铼合金中变形孪晶的密度,有效改善钼铼合金的室温力学性能。

    一种高硬度难熔高熵合金氮化膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN117512532A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311451048.X

    申请日:2023-11-03

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/06 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种高硬度难熔高熵合金氮化膜及其制备方法,该方法选难熔高熵合金TiZrNbMo靶材,采用磁控溅射方法在衬底上制备难熔高熵合金氮化膜。本发明选用近等原子比且具有BCC结构的难熔高熵合金TiZrNbMo靶材,采用磁控溅射方法,通过调节反应气体与工作气体的流量比例,有效控制氮化膜中氮元素含量,通过调节气体流量和溅射过程中工作气压,有效控制等离子体密度,进而对溅射沉积速率进行有效调控,实现了对难熔高熵合金氮化膜的形貌结构和组织性能的优化;该难熔高熵合金氮化膜中各元素分布均匀,表面平整致密均匀,且呈现柱状晶结构,其硬度高达18GPa~24.2GPa,相较于难熔高熵合金得到了明显的提升。

    一种制备梯度W-Ta合金纳米薄膜的方法

    公开(公告)号:CN117488263A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311593688.4

    申请日:2023-11-27

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/16 C23C14/54

    摘要: 本发明公开了一种制备梯度W‑Ta合金纳米薄膜的方法,该方法包括:一、清洁W靶材、Ta靶材及单晶Si基底;二、将清洁后的W靶材、Ta靶材和单晶Si基底安装在磁控溅射设备的腔体内,得到装配磁控溅射设备;三、将装配磁控溅射设备的腔体内抽真空;四、对各靶材进行预溅射;五、溅射得到梯度WTa合金纳米薄膜。本发明通过控制靶材和Ta靶材的安装电源位置,并控制溅射过程中直流电源和射频电源的工艺参数,在基地上依次沉积硬基底层、中间层和软表面层,得到表韧‑芯硬的梯度WTa合金纳米薄膜,而在保证强度的前提下,提升了WTa合金的室温塑性变形能力,该方法高效、便捷,可控性高。

    一种提升钼铌单晶室温力学性能的方法

    公开(公告)号:CN115787063A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211496675.0

    申请日:2022-11-25

    IPC分类号: C30B13/22 C30B33/02

    摘要: 本发明公开了一种提升钼铌单晶室温力学性能的方法,包括以下步骤:步骤一、将钼原料和铌原料混合,然后通过电子束悬浮区域熔炼,得到退火前单晶钼铌合金;步骤二、将步骤一中得到的退火前单晶钼铌合金进行真空退火,得到力学性能提升的单晶钼铌合金。本发明通过在钼单晶中添加合金元素铌,有效提升纯钼单晶的强度和高温稳定性,并将通过电子束悬浮区域熔炼制备得到的钼铌单晶进行真空退火,有效降低钼铌单晶体系的内应力,改善钼铌合金单晶内部的微观缺,从而促进位错滑移,以此提升钼铌单晶的力学性能,尤其是塑性变形能力。