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公开(公告)号：CN1991333B
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200510137450.6
申请日：2005-12-30
申请人： 财团法人工业技术研究院
IPC分类号： G01Q10/00
摘要： 一种零阿贝误差测量系统，其包括移动平台、检测装置以及第一与第二三维光学尺。移动平台是用以载置待测量样本。检测装置用以检测待测量样本，并测量待测量样本的待测点相对于移动平台的垂直高度。第一与第二三维光学尺分别设置在移动平台上且隔着待测量样本彼此相对，其中第一与第二三维光学尺可垂直该移动平台进行高度微调，使第一与第二三维光学尺相对于移动平台的垂直高度与待测点的垂直高度相等，以进行待测量样本的测量。
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公开(公告)号：CN1991333A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200510137450.6
申请日：2005-12-30
申请人： 财团法人工业技术研究院
摘要： 一种零阿贝误差测量系统，其包括移动平台、检测装置以及第一与第二三维光学尺。移动平台是用以载置待测量样本。检测装置用以检测待测量样本，并测量待测量样本的待测点相对于移动平台的垂直高度。第一与第二三维光学尺分别设置在移动平台上且隔着待测量样本彼此相对，其中第一与第二三维光学尺可垂直该移动平台进行高度微调，使第一与第二三维光学尺相对于移动平台的垂直高度与待测点的垂直高度相等，以进行待测量样本的测量。
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公开(公告)号：CN1991297B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200510132985.4
申请日：2005-12-31
申请人： 财团法人工业技术研究院
摘要： 本发明公开了一种准共光程外差干涉位移测量系统，包含：一外差光源，分为一参考光与一信号光；一光栅，使该信号光入射该光栅而产生一绕射光；一偏极分光镜，使该绕射光分为一第一绕射光与一第二绕射光；一个以上偏振板，使该参考光穿过该些偏振板而产生一参考干涉光，且该第一绕射光穿过该些偏振板而产生一第一干涉光，而该第二绕射光穿过该些偏振板而产生一第二干涉光；一信号处理装置，量得该参考干涉光、该第一干涉光与该第二干涉光的相位差而可得该光栅的位移量。本发明具有外差干涉相位测量的高灵敏度，且具有光学架构不受外在环境扰动的高稳定性，以直接测量因位移所造成的相位变化量以达到高测量精度。
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公开(公告)号：CN1991297A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200510132985.4
申请日：2005-12-31
申请人： 财团法人工业技术研究院
摘要： 本发明公开了一种准共光程外差干涉位移测量系统，包含：一外差光源，分为一参考光与一信号光；一光栅，使该信号光入射该光栅而产生一绕射光；一偏极分光镜，使该绕射光分为一第一绕射光与一第二绕射光；一个以上偏振板，使该参考光穿过该些偏振板而产生一参考干涉光，且该第一绕射光穿过该些偏振板而产生一第一干涉光，而该第二绕射光穿过该些偏振板而产生一第二干涉光；一信号处理装置，量得该参考干涉光、该第一干涉光与该第二干涉光的相位差而可得该光栅的位移量。本发明具有外差干涉相位测量的高灵敏度，且具有光学架构不受外在环境扰动的高稳定性，以直接测量因位移所造成的相位变化量以达到高测量精度。
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