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公开(公告)号：CN109894328B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201711304607.9
申请日：2017-12-11
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： B05C11/02
摘要： 本发明公开了振动线棒涂布方法及涂布装置，该振动线棒涂布方法以该涂布装置在一基材上涂布形成一薄膜，该涂布装置的转动调整模块带动线棒先以一第一转速转动，且该线棒在与该基材相接处的切线方向和该基材的移动方向反向，可微调薄膜的厚度，进而控制其精准度；该涂布装置的线棒再以一第二转速转动复位，该线棒在与该基材相接处的切线方向和该基材的移动方向同向，其中，第二转速远大于第一转速，该线棒能带动油墨高速拨射而提高均匀度，且该线棒往复转动可控制涂布速度与产量之外，也可限制线棒接触过薄膜的面积，不用整支旋转，可降低对线棒的真直度与圆筒度的要求。
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公开(公告)号：CN109894328A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201711304607.9
申请日：2017-12-11
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： B05C11/02
摘要： 本发明公开了振动线棒涂布方法及涂布装置，该振动线棒涂布方法以该涂布装置在一基材上涂布形成一薄膜，该涂布装置的转动调整模块带动线棒先以一第一转速转动，且该线棒在与该基材相接处的切线方向和该基材的移动方向反向，可微调薄膜的厚度，进而控制其精准度；该涂布装置的线棒再以一第二转速转动复位，该线棒在与该基材相接处的切线方向和该基材的移动方向同向，其中，第二转速远大于第一转速，该线棒能带动油墨高速拨射而提高均匀度，且该线棒往复转动可控制涂布速度与产量之外，也可限制线棒接触过薄膜的面积，不用整支旋转，可降低对线棒的真直度与圆筒度的要求。
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公开(公告)号：CN106903025B
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201510968438.3
申请日：2015-12-22
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
摘要： 本发明是一种具表面适应性能的线棒涂布装置，其设于涂布机台，该具表面适应性能的线棒涂布装置包含涂布平台及涂布模组，涂布平台包含基座及吸收材，吸收材设于基座的顶面，涂布模组可移动地位于涂布平台的上方，涂布模组包含支撑座、线棒、配重座及弹性件，线棒及配重座设于支撑座，配重座位于线棒的上方，弹性件设于配重座的底部，弹性件的底面抵靠线棒，涂布平台的吸收材能适应线棒表面的不平整性，并通过配重座及弹性件对线棒均匀施压，使待涂布膜可贴合于线棒，以增加涂布的均匀性，提高涂布品质。
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公开(公告)号：CN103901594A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201310522035.7
申请日：2013-10-29
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
CPC分类号： G03B41/00 , G03B15/03 , G03B17/17 , G03B33/00 , G03B2215/0582 , G03F9/7038 , G03F9/7046 , G03F9/7088
摘要： 一种光学影像撷取模块、对位方法及观测方法，该光学影像撷取模块用在一上基板及一下基板的对位方法及观测方法，该上基板及该下基板相对设置，该对位方法包括下列步骤：发出一光线；过滤该光线，使该光线分为具有一第一波长光线及具有一第二波长光线，该第一波长光线照射该上基板的图案，该第二波长光线照射该下基板的图案；反射该上基板的图案到一影像撷取装置；反射该下基板的图案到该影像撷取装置；以及判断该上基板的图案与该下基板的图案在该影像撷取装置上的位置。
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公开(公告)号：CN103905719B
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201310531112.5
申请日：2013-10-31
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： H04N5/232
CPC分类号： H04N17/002
摘要： 一种用于校正多个影像撷取装置的校正片及其校正方法，该校正片包括：一底板，具有一正面及一背面；多个校正图案，形成在该底板的正面，该些校正图案呈规律性的方式排列，其中该些校正图案用以校正该些影像撷取装置的影像的畸变、镜头像差及影像中心位置的校正；以及多个图形编码式图案，形成在该底板的正面，且该些图形编码式图案都不相同，以及图形编码式图案具有提供各校正图案位置的信息。
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公开(公告)号：CN104730871B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201310699737.2
申请日：2013-12-18
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 一种异空间异尺寸基材对位方法，包括：撷取不同尺寸的二基板的实际局部图像；比对该二基板的标准局部特征区域内的特定标记，并取得该二基板的实际局部特征区域内的特定标记；分别建立该二基板的实际坐标系统，以合成一对位组装坐标系统；比对该二实际坐标系统中的二基板的特定标记的坐标值以取得第一组偏移量，并比对该二基板的尺寸以取得尺寸差量；利用该第一组偏移量及该尺寸差量，修正该二基板的其中一基板的特定标记的坐标值；比对该二基板的特定标记的坐标值，以取得第二组偏移量；将该基板移动至该第二组偏移量所补偿的位置。
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公开(公告)号：CN104730871A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201310699737.2
申请日：2013-12-18
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 一种异空间异尺寸基材对位方法，包括：撷取不同尺寸的二基板的实际局部图像；比对该二基板的标准局部特征区域内的特定标记，并取得该二基板的实际局部特征区域内的特定标记；分别建立该二基板的实际坐标系统，以合成一对位组装坐标系统；比对该二实际坐标系统中的二基板的特定标记的坐标值以取得第一组偏移量，并比对该二基板的尺寸以取得尺寸差量；利用该第一组偏移量及该尺寸差量，修正该二基板的其中一基板的特定标记的坐标值；比对该二基板的特定标记的坐标值，以取得第二组偏移量；将该基板移动至该第二组偏移量所补偿的位置。
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公开(公告)号：CN103905719A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201310531112.5
申请日：2013-10-31
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
IPC分类号： H04N5/232
CPC分类号： H04N17/002
摘要： 一种用于校正多个影像撷取装置的校正片及其校正方法，该校正片包括：一底板，具有一正面及一背面；多个校正图案，形成在该底板的正面，该些校正图案呈规律性的方式排列，其中该些校正图案用以校正该些影像撷取装置的影像的畸变、镜头像差及影像中心位置的校正；以及多个图形编码式图案，形成在该底板的正面，且该些图形编码式图案都不相同，以及图形编码式图案具有提供各校正图案位置的信息。
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公开(公告)号：CN108146998A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201710180400.9
申请日：2017-03-23
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心 , 台湾三通工业股份有限公司
摘要： 本发明提供一种加工设备，包括入料单元、输送单元及加工单元。入料单元具有倾斜移动段、水平移动段及驱动元件。水平移动段具有第一端及第二端，倾斜移动段连接于第一端。多个工件依序沿倾斜移动段移动而到达第一端。驱动元件连接于水平移动段，水平移动段通过驱动元件的驱动而带动这些工件依序沿水平移动段移动而到达第二端。输送单元包括多个输送结构。这些输送结构依序通过第二端，位于第二端的各工件沿水平方向结合至对应的输送结构。输送单元将这些工件往加工单元输送。工件为长型结构且其在入料单元及输送单元的移动方向垂直于工件的长度方向。
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公开(公告)号：CN103901594B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201310522035.7
申请日：2013-10-29
申请人： 财团法人金属工业研究发展中心
CPC分类号： G03B41/00 , G03B15/03 , G03B17/17 , G03B33/00 , G03B2215/0582 , G03F9/7038 , G03F9/7046 , G03F9/7088
摘要： 一种光学影像撷取模块、对位方法及观测方法，该光学影像撷取模块用在一上基板及一下基板的对位方法及观测方法，该上基板及该下基板相对设置，该对位方法包括下列步骤：发出一光线；过滤该光线，使该光线分为具有一第一波长光线及具有一第二波长光线，该第一波长光线照射该上基板的图案，该第二波长光线照射该下基板的图案；反射该上基板的图案到一影像撷取装置；反射该下基板的图案到该影像撷取装置；以及判断该上基板的图案与该下基板的图案在该影像撷取装置上的位置。
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