半导体器件及系统
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101752367A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200910179027.0

    申请日:2009-10-09

    IPC分类号: H01L27/04 H01L29/36 H01L29/06

    CPC分类号: H01L29/861 H01L29/402

    摘要: 本发明涉及半导体器件及系统。本发明公开了一种半导体器件(400)。该半导体器件包括:第一导电类型的第一区域(402);第二导电类型的第二区域(404),邻近于第一区域设置以形成p-n结结构;第二导电类型的电阻修改区域(406);和第二导电类型的场响应修改区域(408),设置在电阻修改区域与第二区域之间,其中,场响应修改区域包括沿着该场响应修改区域的厚度方向(450)的变化的掺杂剂浓度分布。

    燃烧器系统中的杂质检测

    公开(公告)号:CN102095198B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201010601870.6

    申请日:2010-12-10

    IPC分类号: F23D11/00 G01N21/71

    CPC分类号: G01N21/72 F23N5/082

    摘要: 本发明涉及燃烧器系统中的杂质检测。具体而言,本发明公开了一种燃烧器系统(10)和测量燃烧系统(10)中的杂质的方法。该燃烧系统(10)包括上游的燃料喷射点(18);下游的涡轮燃烧器(20);位于涡轮燃烧器(20)中的包括多个轴向子区(32,34,36,38)的火焰区(22);构造成用以实现对多个轴向子区(32,34,36,38)中的至少一个进行非轴向的、直接光学观察的光学端口组件(24);以及与光学端口组件(24)构成光学通信的杂质检测系统(26)。

    燃烧器系统中的杂质检测

    公开(公告)号:CN102095198A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010601870.6

    申请日:2010-12-10

    IPC分类号: F23D11/00 G01N21/71

    CPC分类号: G01N21/72 F23N5/082

    摘要: 本发明涉及燃烧器系统中的杂质检测。具体而言,本发明公开了一种燃烧器系统(10)和测量燃烧系统(10)中的杂质的方法。该燃烧系统(10)包括上游的燃料喷射点(18);下游的涡轮燃烧器(20);位于涡轮燃烧器(20)中的包括多个轴向子区(32,34,36,38)的火焰区(22);构造成用以实现对多个轴向子区(32,34,36,38)中的至少一个进行非轴向的、直接光学观察的光学端口组件(24);以及与光学端口组件(24)构成光学通信的杂质检测系统(26)。

    半导体器件及系统
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101752367B

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN200910179027.0

    申请日:2009-10-09

    IPC分类号: H01L27/04 H01L29/36 H01L29/06

    CPC分类号: H01L29/861 H01L29/402

    摘要: 本发明涉及半导体器件及系统。本发明公开了一种半导体器件(400)。该半导体器件包括:第一导电类型的第一区域(402);第二导电类型的第二区域(404),邻近于第一区域设置以形成p-n结结构;第二导电类型的电阻修改区域(406);和第二导电类型的场响应修改区域(408),设置在电阻修改区域与第二区域之间,其中,场响应修改区域包括沿着该场响应修改区域的厚度方向(450)的变化的掺杂剂浓度分布。