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公开(公告)号：CN111989565B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201980024689.2
申请日：2019-04-08
IPC分类号： G01N27/626
摘要： 本发明提供一种硅基板的分析方法，可以ICP‑MS高精度地分析形成有膜厚较厚的氮化膜的硅基板中的微量金属等杂质。本发明的分析方法使用硅基板用分析装置，该硅基板用分析装置具备：分析扫描端口、分析液采取机构及进行感应偶合等离子体分析的分析机构；前述分析扫描端口具有：载入端口、基板搬送机器人、对准器、干燥室、气相分解腔室、分析台及基板分析用喷嘴，其中，将形成有氮化膜的硅基板通过基板分析用喷嘴以氢氟酸与过氧化氢水的混合液的回收液扫掠硅基板表面并回收，之后将回收液吐出至硅基板表面并加热干燥，吐出强酸溶液或强碱溶液并加热干燥，以分析液扫掠硅基板表面并回收，且将分析液以ICP‑MS进行分析。
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公开(公告)号：CN111989565A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN201980024689.2
申请日：2019-04-08
IPC分类号： G01N27/62
摘要： 本发明提供一种硅基板的分析方法，可以ICP‑MS高精度地分析成膜有膜厚较厚的氮化膜的硅基板中的微量金属等杂质。本发明的分析方法使用硅基板用分析装置，该硅基板用分析装置具备：分析扫描端口、分析液采取机构及进行感应偶合等离子体分析的分析机构；前述分析扫描端口具有：载入端口、基板搬送机器人、对准器、干燥室、气相分解腔室、分析台及基板分析用喷嘴，其中，将成膜有氮化膜的硅基板通过基板分析用喷嘴以氢氟酸与过氧化氢水的混合液的回收液扫掠硅基板表面并回收，之后将回收液吐出至硅基板表面并加热干燥，吐出强酸溶液或强碱溶液并加热干燥，以分析液扫掠硅基板表面并回收，且将分析液以ICP‑MS进行分析。
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公开(公告)号：CN104995721B
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201480009095.1
申请日：2014-01-21
申请人： 埃耶士株式会社
IPC分类号： H01L21/302 , G01N1/28
CPC分类号： H01L22/12 , G01N1/32 , H01J37/32449 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H01L21/67069
摘要： 本发明提供一种适用于基板上的多晶硅、或构成基板的块状硅的蚀刻的蚀刻装置。本发明关于一种具备使蚀刻气体从基板的周缘流动至大致中心的气体流动调整手段的蚀刻装置，关于一种可对于基板整面以均匀的厚度蚀刻多晶硅或块状硅的技术。此外，气体流动调整手段设置成可上下动作，且可通过其调整而控制蚀刻速度。
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公开(公告)号：CN103512769B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310230781.9
申请日：2013-06-09
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明涉及一种使用在用于分析微量金属等分析对象物的衬底分析器件的衬底分析用喷嘴，且提供一种可确实地回收分析液的衬底分析用喷嘴的构造。本发明的衬底分析用喷嘴是由双重管喷嘴所构成，在以送出至喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在喷嘴本体外周的外管；喷嘴本体具有用于将分析液保持在前端的外缘朝前端方向突出的凹状端面、及用于送出及抽吸分析液的细管，细管配置在喷嘴本体的凹状端面中央，且使细管的前端表面比细管剖面的表面积更大。
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公开(公告)号：CN109791097B
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN201780004607.9
申请日：2017-07-18
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明提供一种基板分析用管嘴及基板分析方法，即便是亲水性较高的基板，仍可确实地防止分析液从管嘴漏出(脱落)，且能够以较高的回收率来回收扫描后的分析液。本发明涉及一种基板分析用管嘴，其从前端将分析液送出至基板上，且在以所送出的分析液来扫描基板表面之后抽吸分析液，该基板分析用管嘴由三重管所构成，该三重管由送出及抽吸分析液的配管、以包围要扫描的分析液的方式设置于配管的外周的第一外管、以及设置于第一外管的外周侧的第二外管所构成；该基板分析用管嘴具有：第一排气装置，其将配管与第一外管之间作为排气路径；以及第二排气装置，其将第一外管与第二外管之间作为排气路径。
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公开(公告)号：CN113287193A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201980086331.2
申请日：2019-11-06
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明提供一种可更简易且迅速地分析基板端部的分析技术。本发明的基板分析方法，是利用基板分析用的喷嘴的基板分析方法，该基板分析用的喷嘴从前端送出分析液，并且以所送出的分析液扫描基板表面之后利用抽吸分析液，该基板分析方法在与喷嘴的前端相对向的位置，配置用以承接被送出的分析液的液承接板，且将从前端送出的分析液保持在喷嘴的前端与液承接板之间，且在喷嘴的前端与液承接板之间，以可插入基板端部的方式对基板进行位置调整，并且使基板端部接触于保持在喷嘴的前端与液承接板之间的分析液，且在基板端部接触于分析液的状态下，使喷嘴及液承接板沿着基板的周缘同时地移动，以分析基板端部。
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公开(公告)号：CN109791097A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780004607.9
申请日：2017-07-18
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明提供一种基板分析用管嘴及基板分析方法，即便是亲水性较高的基板，仍可确实地防止分析液从管嘴漏出(脱落)，且能够以较高的回收率来回收扫描后的分析液。本发明涉及一种基板分析用管嘴，其从前端将分析液送出至基板上，且在以所送出的分析液来扫描基板表面之后抽吸分析液，该基板分析用管嘴由三重管所构成，该三重管由送出及抽吸分析液的配管、以包围要扫描的分析液的方式设置于配管的外周的第一外管、以及设置于第一外管的外周侧的第二外管所构成；该基板分析用管嘴具有：第一排气装置，其将配管与第一外管之间作为排气路径；以及第二排气装置，其将第一外管与第二外管之间作为排气路径。
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公开(公告)号：CN103512769A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310230781.9
申请日：2013-06-09
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明涉及一种使用在用于分析微量金属等分析对象物的衬底分析器件的衬底分析用喷嘴，且提供一种可确实地回收分析液的衬底分析用喷嘴的构造。本发明的衬底分析用喷嘴是由双重管喷嘴所构成，在以送出至喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在喷嘴本体外周的外管；喷嘴本体具有用于将分析液保持在前端的外缘朝前端方向突出的凹状端面、及用于送出及抽吸分析液的细管，细管配置在喷嘴本体的凹状端面中央，且使细管的前端表面比细管剖面的表面积更大。
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公开(公告)号：CN102157410A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010602119.8
申请日：2010-12-17
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明公开了一种衬底分析装置及一种衬底分析方法，其为可通过同一装置进行蚀刻步骤与回收步骤两步骤的小型且简易的分析装置，不论形成于衬底的膜的种类为何皆可进行分析且也适用于衬底上的局部分析。本发明的衬底分析装置，具备由将分析液予以送出及抽吸的喷嘴本体、及配置在喷嘴本体外周的外管所构成的双重管喷嘴，回收手段为双重管喷嘴的喷嘴本体，蚀刻手段为供给至喷嘴本体与外管之间的蚀刻气体。而且，还具备将喷嘴本体与外管之间作为排气路径的排气手段，外管以围绕进行刮引的分析液的方式配置，且在前端具有外气导入孔。依据本发明，可通过同一装置进行蚀刻步骤与回收步骤两步骤，也可进行简易的分析、或针对衬底的特定部位的局部分析。
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公开(公告)号：CN108351281B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201680050378.X
申请日：2016-10-25
申请人： 埃耶士株式会社
摘要： 本发明提供一种基板分析用的喷嘴，是针对具有亲水性较大的特性的基板，即使利用分析液来扫描，分析液也不会漏出，而可确实地进行分析的基板分析用的喷嘴。本发明的基板分析用的喷嘴由双层管所构成，且具备将喷嘴主体与外管之间作为排气路径的排气装置，该双层管由吐出及抽吸分析液的喷嘴主体、及以包围要扫描的分析液的方式配设在喷嘴主体的外围的外管所构成，该基板分析用的喷嘴在外管前端的外周侧且为喷嘴的扫描方向的相反侧，配置朝喷嘴主体的前端将惰性气体喷附至与基板表面大致平行的方向的气体喷附管。
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