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公开(公告)号：CN1423103A
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN02155778.0
申请日：2002-12-04
CPC classification number: G05D23/1393
Abstract: 一种载冷剂供给装置,将纯水等的载冷剂调整成适合于所述负荷的目标温度于循环地供给至少一个负荷,具有:设在流动有从所述负荷侧返回的载冷剂载冷剂冷却流路中的、利用工业用水冷却所述载冷剂用的热交换器；对所述载冷剂加热用的加热器；设在所述冷却流路与所述加热流路的连接部上的混合部；设在所述混合部的出口侧的混合部出口侧温度传感器；根据来自所述混合部出口侧温度传感器的输出来调整冷却后的载冷剂与加热后的载冷剂的混合比的混合调整装置；作为设在所述混合部与所述负荷之间的储罐、即构成使所述载冷剂以缓慢低速度地通过其中的、具有约10升以上容积的储罐,因此,可降低装置的运转成本且使装置小型化,并可稳定控制载冷剂的温度。
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公开(公告)号：CN1261727C
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN02155778.0
申请日：2002-12-04
CPC classification number: G05D23/1393
Abstract: 一种载冷剂供给装置，将纯水等的载冷剂调整成适合于所述负荷的目标温度于循环地供给至少一个负荷，具有：设在流动有从所述负荷侧返回的载冷剂载冷剂冷却流路中的、利用工业用水冷却所述载冷剂用的热交换器；对所述载冷剂加热用的加热器；设在所述冷却流路与所述加热流路的连接部上的混合部；设在所述混合部的出口侧的混合部出口侧温度传感器；根据来自所述混合部出口侧温度传感器的输出来调整冷却后的载冷剂与加热后的载冷剂的混合比的混合调整装置；作为设在所述混合部与所述负荷之间的储罐、即构成使所述载冷剂以缓慢低速度地通过其中的、具有约10升以上容积的储罐，因此，可降低装置的运转成本且使装置小型化，并可稳定控制载冷剂的温度。
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公开(公告)号：CN1599953A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN02824097.9
申请日：2002-12-03
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , Y10T279/23
Abstract: 提供一种用于半导体制造装置的静电吸盘组件，其可用水冷却，并且不发生穿透泄漏。通过调节Cu基复合材料中的具有大的热膨胀系数的Cu和Ni以及具有小的热膨胀系数的W和Mo的比，可以得到具有与用于静电吸盘的氧化铝材料相同的热膨胀系数的高热导材料。但是，由于该复合材料具有穿透泄漏，不能在真空系统中使用。根据本发明，通过进行锻造处理，可防止击穿泄漏。同时，通过电镀或溅射施加Ni、Cr或Cu膜可改进对冷却板来说很重要的耐腐蚀性。
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公开(公告)号：CN1299345C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN02824097.9
申请日：2002-12-03
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , Y10T279/23
Abstract: 提供一种用于半导体制造装置的静电吸盘组件，其可用水冷却，并且不发生穿透泄漏。通过调节Cu基复合材料中的具有大的热膨胀系数的Cu和Ni以及具有小的热膨胀系数的W和Mo的比，可以得到具有与用于静电吸盘的氧化铝材料相同的热膨胀系数的高热导材料。但是，由于该复合材料具有穿透泄漏，不能在真空系统中使用。根据本发明，通过进行锻造处理，可防止击穿泄漏。同时，通过电镀或溅射施加Ni、Cr或Cu膜可改进对冷却板来说很重要的耐腐蚀性。
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