公开(公告)号：CN118910552A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202410979139.9

申请日：2024-07-22

申请人： 长春理工大学中山研究院 ,  中山吉联光电科技有限公司

发明人： 潘永刚 ,  王奔 ,  林兆文 ,  董所涛 ,  付秀华 ,  吴桂青

IPC分类号： C23C14/22 ,  C23C14/02 ,  C23C14/10 ,  C23C14/08 ,  C23C14/18 ,  C23C14/20 ,  C23C14/06 ,  C23C14/26 ,  H05K9/00

摘要： 本发明提供了一种透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜及其制备方法，属于光学薄膜制备领域，具体包括将样品基底放入镀膜机样品架上抽真空，当真空度达到5.0×10‑4Pa时，对样品基底进行离子清洗预处理；清洗完成后，待真空度稳定在3.0×10‑4Pa时，薄膜沉积连接层，并进行离子束辅助沉积；薄膜沉积透明电磁屏蔽层；薄膜沉积增透膜层的第一层；薄膜沉积增透膜层的剩余层数，并进行离子束辅助沉积；待增透膜层沉积结束后，待真空度恢复到3.0×10‑4Pa时，采用电阻蒸发沉积耐摩擦层，本层不采用离子束辅助沉积工艺；然后停止抽真空和加温，开始自然降温，降至室温时，得到透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜。通过本申请的处理方案，实现了透明、电磁屏蔽、耐摩擦等多功能特性。