一种不受外界磁场干扰的求解结构面产状的方法

    公开(公告)号:CN116758133A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310504111.5

    申请日:2023-05-06

    IPC分类号: G06T7/60 G06T17/05 G06T19/20

    摘要: 本发明公开了一种不受外界磁场干扰的求解结构面产状的方法。它包括如下步骤,步骤一、获取基础数据:采用不受外界磁场干扰的专业测量方法获取目标结构面上三个点的坐标和高程,三个点不共线;步骤二、判断A、B、C三点高程是否全相等,如果全相等,则结构面水平;步骤三、在A、B、C三点高程不全相等情况下,求出结构面上高程相等的两点的坐标,确定走向线,得到结构面走向;步骤四、在A、B、C三点高程不全相等情况下,求解结构面的倾角;步骤五、求解倾斜结构面的倾向;步骤六、简化上述结构面产状求解过程,得到便于应用的结构面产状求解方法。本发明具有不受外界磁场干扰,适用性强、精度高、简便快捷的优点。

    基于图像渲染技术的地质编录方法

    公开(公告)号:CN118485786A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202410486597.9

    申请日:2024-04-22

    IPC分类号: G06T17/05 G06T3/06

    摘要: 本发明涉及基于图像渲染技术的地质编录方法,包括:选择控制点;获取、检查照片;全景图切片,获取框图并命名;构造控制点数据;计算稀疏点云与框图位姿;获得实景三维模型;构造矩形区域作投影面;计算投影面的平面方程;将投影面中心A点偏移到B点;确定投影面对应的相机位姿:计算出目标图像的像素分辨率;从实景三维模型中渲染出二维场景图;勾绘出露迹线并记录其2D像素坐标;计算岩层的倾向和倾角;整理成施工地质编录展示图。本发明在可直接二维底图上勾绘露迹线,计算露迹线三维坐标,使得产状测量的结果更精确。本发明操作简单、学习成本低、编录图美观并可以在室内完成编录工作,降低了安全隐患。