一种爆炸箔及其批量化制备方法

    公开(公告)号:CN116254506A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310046859.5

    申请日:2023-01-31

    摘要: 本发明涉及一种爆炸箔及其批量化制备方法,属于点火起爆装置和微电子机械技术领域。所述爆炸箔为由下向上依次由Ti膜、Al膜、Ni膜、Cu膜和Au膜组成的复合膜;所述Ti膜的厚度为5~200nm,Al膜的厚度为100~300nm、Ni膜的厚度为100~300nm、Cu膜的厚度为1000~5000nm,Au膜的厚度为5~100nm;所述爆炸箔以蓝宝石晶圆为衬底,采用匀胶光刻和磁控溅射镀膜工艺在晶圆上由下向上依次沉积Ti、Al、Ni、Cu、Au膜,最后通过激光切割划片并在衬底上加工通孔,得到沉积有所述爆炸箔的单个晶圆;全过程采用半导体制备工艺,可批量化生产,提高生产效率,降低成本并提高爆炸箔的精度。

    一种起爆器爆炸桥箔的制作方法

    公开(公告)号:CN109556463B

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201811385797.6

    申请日:2018-11-21

    摘要: 本发明公开了一种起爆器爆炸桥箔的制作方法,包括陶瓷基底的表面处理,陶瓷基底经过表面处理研磨抛光后,表面粗糙度达到小于15nm时,将陶瓷基底放入酒精进行超声波清洗干净并用氮气吹干,在待镀膜面上均匀涂覆一层光刻胶,通过紫外光刻工艺在光刻胶表面制作特定的桥箔掩膜图形,将胶膜经过固胶处理后,采用双离子束溅射镀膜工艺在陶瓷基底待镀膜面叠加沉积纯钛、纯铜和纯金三种膜层,桥箔制作结束后放入酒精进行超声波清洗去胶获得最终的桥箔图形,桥箔电阻值范围为30~50Ω。采用该工艺制作的爆炸桥箔与基底的附着力较高,桥箔纯度高使桥箔在燃爆过程中能量利用率高,可靠性高。

    一种离子束溅射薄膜高温应变片及其制备方法

    公开(公告)号:CN112611315A

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202011339181.2

    申请日:2020-11-25

    摘要: 本发明公开了一种离子束溅射薄膜高温应变片及其制备方法,该离子束溅射薄膜高温应变片包括镍基合金基底、绝缘薄膜层、镍铬丝栅薄膜层、保护薄膜层以及电极薄膜;镍基合金基底、绝缘薄膜层、以及镍铬丝栅薄膜层从下到上依次层叠设置;电极薄膜和保护薄膜层均通过离子束溅射镀膜工艺沉积于镍铬丝栅薄膜层的顶部,电极薄膜和保护薄膜层同层设置;镍铬丝栅薄膜层由通过离子束溅射镀膜工艺沉积于绝缘薄膜层的镍铬薄膜层经过刻蚀形成;电极薄膜用于连接耐高温导线。上述离子束溅射薄膜高温应变片能够在高温下进行稳定的测量工作。

    一种等离子体刻蚀调整薄膜传感器零位的方法

    公开(公告)号:CN111162018A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201911349059.0

    申请日:2019-12-24

    IPC分类号: H01L21/66 H01L23/544 G01B7/16

    摘要: 本发明涉及一种等离子体刻蚀调整薄膜传感器零位的方法,属于传感器测量技术领域。本方法采用等离子体刻蚀在惠斯通电桥桥臂上刻蚀零位调整电阻,通过调整惠斯通电桥桥臂电阻值使惠斯通电桥电压输出发生变化从而实现整个薄膜传感器的零位调整。本发明所述方法能够实现初始零位偏差值较大的薄膜传感器的零位调整,调整过程环保无污染,而且调整后的薄膜传感器使用温度范围宽。

    一种真空封装的溅射薄膜压力敏感元件

    公开(公告)号:CN111141429A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911340713.1

    申请日:2019-12-23

    摘要: 本发明涉及一种真空封装的溅射薄膜压力敏感元件,属于压力测量装置技术领域。本发明通过将暴露在大气中的敏感薄膜进行真空封装,使溅射薄膜压力敏感元件的表面存在一层真空层,使得敏感薄膜与大气产生隔离,减少空气产生的氧化作用并能够减小溅射薄膜压力敏感元件因大气压力变化而产生的测量误差,该溅射薄膜压力敏感元件具有精度高、稳定性高、使用温度范围广及动态频响高的特点,能够极大扩展溅射薄膜压力敏感元件的应用范围。

    一种起爆器爆炸桥箔的制作方法

    公开(公告)号:CN109556463A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811385797.6

    申请日:2018-11-21

    摘要: 本发明公开了一种起爆器爆炸桥箔的制作方法,包括陶瓷基底的表面处理,陶瓷基底经过表面处理研磨抛光后,表面粗糙度达到小于15nm时,将陶瓷基底放入酒精进行超声波清洗干净并用氮气吹干,在待镀膜面上均匀涂覆一层光刻胶,通过紫外光刻工艺在光刻胶表面制作特定的桥箔掩膜图形,将胶膜经过固胶处理后,采用双离子束溅射镀膜工艺在陶瓷基底待镀膜面叠加沉积纯钛、纯铜和纯金三种膜层,桥箔制作结束后放入酒精进行超声波清洗去胶获得最终的桥箔图形,桥箔电阻值范围为30~50Ω。采用该工艺制作的爆炸桥箔与基底的附着力较高,桥箔纯度高使桥箔在燃爆过程中能量利用率高,可靠性高。

    一种等离子体刻蚀调整薄膜传感器零位的方法

    公开(公告)号:CN111162018B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN201911349059.0

    申请日:2019-12-24

    IPC分类号: H01L21/66 H01L23/544 G01B7/16

    摘要: 本发明涉及一种等离子体刻蚀调整薄膜传感器零位的方法,属于传感器测量技术领域。本方法采用等离子体刻蚀在惠斯通电桥桥臂上刻蚀零位调整电阻,通过调整惠斯通电桥桥臂电阻值使惠斯通电桥电压输出发生变化从而实现整个薄膜传感器的零位调整。本发明所述方法能够实现初始零位偏差值较大的薄膜传感器的零位调整,调整过程环保无污染,而且调整后的薄膜传感器使用温度范围宽。

    一种贴片式薄膜NTC热敏电阻器
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115691920A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202211278862.1

    申请日:2022-10-19

    IPC分类号: H01C7/04 H01C1/14

    摘要: 本发明涉及一种贴片式薄膜NTC热敏电阻器,属于热敏电阻技术领域。所示热敏电阻器包括衬底、绝缘膜、NTC薄膜、上电极、铜柱、下电极以及保护膜,绝缘膜位于衬底的上表面,NTC薄膜位于绝缘膜上,上电极位于NTC薄膜以及绝缘膜上且均匀分布,保护膜位于上电极、NTC薄膜以及绝缘膜裸露的表面上,下电极位于衬底的下表面,铜柱穿过衬底连接上电极与下电极。该热敏电阻器采用铜柱连接上、下两个电极,在贴片时就可以使NTC薄膜朝上,与热源更接近,而且能够大幅度缩短电互连的长度,解决信号延迟的问题,使测试更灵敏、方便。

    一种基于薄膜溅射的抗过载扭矩传感器

    公开(公告)号:CN112611489A

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202011519048.5

    申请日:2020-12-21

    IPC分类号: G01L3/10

    摘要: 本发明公开了一种基于薄膜溅射的抗过载扭矩传感器,包括:输出线缆、电路板、垫柱、壳体、弹性体、应变梁及薄膜应变计;所述弹性体为环状板,所述环状板由内到外顺序分为内缘段、安装环段及外缘段;且安装环段设有一体成型的矩形凸起,作为应变梁;所述壳体同轴安装在弹性体的安装环段上;所述电路板位于壳体的环形腔内,并通过垫柱安装在弹性体的安装环段上;所述输出线缆的一端焊接在电路板上,另一端与外部的电连接器连接;两个薄膜应变计的应变电阻均通过溅射镀膜工技术溅射在弹性体的应变梁上;本发明采用溅射镀膜工艺制成敏感薄膜,并设有抗扭限位结构,当扭矩载荷超过设定阈值时候,抗扭限位结构能够起到抗过载保护弹性梁作用。