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发明公开
一种真空镀膜中真空泵系统的工作方法及真空泵系统无效

公开(公告)号：CN113621936A

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN202111184329.4

申请日：2021-10-12

申请人： 陛通半导体设备(苏州)有限公司

发明人： 刘祥 , 宋维聪 , 封拥军 , 郑倪明 , 罗傢蛴 , 崔世甲

IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/54

摘要： 本发明涉及一种真空镀膜中真空泵系统的工作方法及真空泵系统，所述真空泵系统包括工艺腔、泵体、保护气源和压缩空气源，包括如下步骤：S10：获取工艺腔的工作状态，当工艺腔处于工作状态，执行S20，当工艺腔处于非工作状态，则执行S30；S20：连通保护气源和泵体，使保护气体进入泵体；S30：连通压缩空气源和泵体，使压缩空气进入泵体。本发明通过判断工艺腔的工作状态，实现适时地将适合的气体通入真空泵，节约了成本。