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公开(公告)号:CN115241026A
公开(公告)日:2022-10-25
申请号:CN202211169361.X
申请日:2022-09-26
申请人: 陛通半导体设备(苏州)有限公司
摘要: 本发明提供一种旋转装置,该旋转装置包括:具有漏液隔离罩、主支架、固定轴组件及旋转轴组件的磁耦合联轴器;漏液隔离罩扣装于冷却室的上方并形成一内置空间,其中,内置空间与冷却室连通;主支架安装于冷却室的上方,固定轴组件通过主支架挂装于漏液隔离罩的外部;旋转轴组件位于内置空间中,其旋转轴的顶端挂装于漏液隔离罩的顶部,底端贯穿冷却室的顶部并与磁控管相连;其中,固定轴组件与旋转轴组件基于径向磁耦合作用做旋转运动。通过本发明提供的旋转装置,解决了现有旋转机构因动态密封件磨损而导致冷却液渗漏到冷却室外部,污染腐蚀物理气相沉积设备外部设施的问题。
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公开(公告)号:CN115241026B
公开(公告)日:2022-11-29
申请号:CN202211169361.X
申请日:2022-09-26
申请人: 陛通半导体设备(苏州)有限公司
摘要: 本发明提供一种旋转装置,该旋转装置包括:具有漏液隔离罩、主支架、固定轴组件及旋转轴组件的磁耦合联轴器;漏液隔离罩扣装于冷却室的上方并形成一内置空间,其中,内置空间与冷却室连通;主支架安装于冷却室的上方,固定轴组件通过主支架挂装于漏液隔离罩的外部;旋转轴组件位于内置空间中,其旋转轴的顶端挂装于漏液隔离罩的顶部,底端贯穿冷却室的顶部并与磁控管相连;其中,固定轴组件与旋转轴组件基于径向磁耦合作用做旋转运动。通过本发明提供的旋转装置,解决了现有旋转机构因动态密封件磨损而导致冷却液渗漏到冷却室外部,污染腐蚀物理气相沉积设备外部设施的问题。
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