用于电子工业中的溶剂
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109690415B

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN201680089183.6

    申请日:2016-09-28

    IPC分类号: G03F7/42

    摘要: 适用于从显示器/半导体衬底或电子加工设备中尤其去除光刻胶和聚(酰胺酸)/聚酰亚胺的溶剂基本上由以下组成:(A)由二甲亚砜(DMSO)和N‑甲酰基吗啉中的至少一种组成的第一组分,以及(B)由以下中的至少一种组成的第二组分:N,N‑二甲基丙酰胺、3‑甲氧基‑N,N‑二甲基丙酰胺、N,N‑二甲基乙酰乙酰胺和N‑甲基‑ε‑己内酰胺。

    有机溶剂的纯化
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118302242A

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202180104436.3

    申请日:2021-12-14

    IPC分类号: B01J20/18 B01J20/16

    摘要: 一种用于从有机溶剂组合物中去除金属杂质的改性沸石材料;该改性沸石材料包含:(i)具有氢官能团的基于氢的沸石、(ii)具有铵官能团的基于铵的沸石或(iii)具有氢官能团的基于氢的沸石和具有铵官能团的基于铵的沸石的组合;该沸石材料含有#imgabs0#的孔径;并且该沸石材料选择性地去除存在于该溶剂中的金属杂质,至杂质含量小于1ppb;一种用于制备上述改性沸石材料的方法;以及一种用于使用上述改性沸石材料从有机溶剂中去除污染物的方法。

    用于电子零件的清洁和剥离的酰胺组合

    公开(公告)号:CN110799906A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201780092705.2

    申请日:2017-07-06

    IPC分类号: G03F7/42

    摘要: 一种基本上由以下组成的溶剂:(A)由N,N-二乙基乙酰胺(DEAC)组成的第一组分;(B)由3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺(M3DMPA)组成的第二组分;和(C)由一种或多种二醇醚或二醇醚乙酸酯组成的任选的第三组分;或者一种基本上由以下组成的溶剂:(1)由一种或多种式(I)的无环酰胺组成的第一组分;和(2)由以下中的一种或多种组成的任选的第二组分:DEAC、M3DMPA、N,N-二甲基丙酰胺、一种或多种二醇醚或二醇醚乙酸酯以及一种或多种式(II-IV)的环状酰胺。

    清洁制剂
    9.
    发明公开
    清洁制剂 审中-公开

    公开(公告)号:CN118451168A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202180104437.8

    申请日:2021-12-14

    IPC分类号: C11D7/26 C11D7/32 C11D1/02

    摘要: 本发明涉及一种含二醇醚的水基清洁组合物,该组合物用于在制造过程期间清洁基材的表面诸如印刷电路板的表面,该组合物包含:(a)至少一种具有高沸点和低VOC的二醇醚;(b)至少一种有机胺;(c)至少一种表面活性剂;和(d)水;用于生产上述含二醇醚的水基组合物的方法;以及用于使用上述组合物清洁印刷电路板的方法。