清洁制剂
    1.
    发明公开
    清洁制剂 审中-公开

    公开(公告)号:CN118451168A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202180104437.8

    申请日:2021-12-14

    IPC分类号: C11D7/26 C11D7/32 C11D1/02

    摘要: 本发明涉及一种含二醇醚的水基清洁组合物,该组合物用于在制造过程期间清洁基材的表面诸如印刷电路板的表面,该组合物包含:(a)至少一种具有高沸点和低VOC的二醇醚;(b)至少一种有机胺;(c)至少一种表面活性剂;和(d)水;用于生产上述含二醇醚的水基组合物的方法;以及用于使用上述组合物清洁印刷电路板的方法。

    从阴离子型表面活性剂溶液减少无机物的方法

    公开(公告)号:CN103249470B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201180058921.8

    申请日:2011-12-05

    摘要: 本发明提供了一种方法,所述方法包括:将去离子水与一种或多种卤代烷基醚在亚硫酸盐存在下的一种或多种Strecker磺化反应产物接触形成过滤混合物,其中所述一种或多种Strecker磺化反应产物各自包含以干基计的一种或多种无机盐和一种或多种表面活性剂组分;将所述过滤混合物装入包含膜的高压过滤系统,所述膜具有允许优先通过无机盐的膜分子量截止值,例如大于或等于200道尔顿;其中所述高压过滤系统在大于环境压力的压力下操作并被构造成引起所述过滤混合物沿着膜表面的错流,由此产生基本上通过所述膜的渗透物溶液和基本上不通过所述膜的截留物溶液;其中基于过滤混合物的重量,所述渗透物包含小于或等于15重量%的表面活性剂组分。