掩膜制备方法和制备系统,太阳能电池和光伏组件

    公开(公告)号:CN115513045B

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202211030907.3

    申请日:2022-08-25

    摘要: 本发明提供了一种掩膜制备方法和制备系统,太阳能电池和光伏组件,涉及太阳能电池制备技术领域。掩膜制备方法包括:采用曝光光源照射感光干膜的第一表面,以对感光干膜曝光;第一表面和感光干膜中与第一表面相对的第二表面,对曝光光源的反射率均小于或等于5%;将曝光后的感光干膜压合在电池本体的表面,并对曝光后的感光干膜显影。本发明中,曝光过程没有在太阳能本体上进行,曝光过程不会受到太阳能本体上高反射系数的结构的影响,且第一表面和第二表面对于曝光光线的反射较弱,曝光光线基本不会反射至栅线区域,曝光区域基本仅为曝光光源照射区域,显影后掩膜在栅线区域基本没有残留,易于电镀栅线电极。

    一种基板涂胶输送装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN115532551A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202211243118.8

    申请日:2022-10-11

    摘要: 本发明公开一种基板涂胶输送装置及其控制方法,涉及硅片生产加工领域,用于减少湿膜基板的湿膜损伤。装置包括位置检测部件、控制器、进料传送机构、涂布机构和出料传送带;涂布机构用于在待涂布基板的上表面、下表面以及侧面涂布湿膜,形成湿膜基板;出料传送带用于输送湿膜基板,出料传送带的上表面设置有多个沿输送方向间隔排布的支撑凸起,支撑凸起用于对应支撑湿膜基板上的可接触点位;位置检测部件用于在湿膜基板由涂布机构向出料传送带传输过程中,获取湿膜基板的位置信息;控制器用于根据位置信息进行控制操作,以使湿膜基板上可接触点位与出料传送带上支撑凸起对应接触,避免了湿膜基板的湿膜损伤。该方法基于该装置。

    掩膜制备方法和制备系统,太阳能电池和光伏组件

    公开(公告)号:CN115513045A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211030907.3

    申请日:2022-08-25

    摘要: 本发明提供了一种掩膜制备方法和制备系统,太阳能电池和光伏组件,涉及太阳能电池制备技术领域。掩膜制备方法包括:采用曝光光源照射感光干膜的第一表面,以对感光干膜曝光;第一表面和感光干膜中与第一表面相对的第二表面,对曝光光源的反射率均小于或等于5%;将曝光后的感光干膜压合在电池本体的表面,并对曝光后的感光干膜显影。本发明中,曝光过程没有在太阳能本体上进行,曝光过程不会受到太阳能本体上高反射系数的结构的影响,且第一表面和第二表面对于曝光光线的反射较弱,曝光光线基本不会反射至栅线区域,曝光区域基本仅为曝光光源照射区域,显影后掩膜在栅线区域基本没有残留,易于电镀栅线电极。

    曝光方法及设备、太阳能电池和光伏组件

    公开(公告)号:CN115598935A

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN202211281545.5

    申请日:2022-10-19

    IPC分类号: G03F7/20 H01L31/18

    摘要: 本发明提供了曝光方法及设备、太阳能电池和光伏组件,涉及光刻技术领域。曝光方法包括:在待曝光件的第一表面和与第一表面具有夹角且相互连接的第二表面设置负性光刻胶;夹角大于0°,小于或等于90°;采用光源,对待曝光件的所述第一表面的至少部分区域,和第二表面的负性光刻胶进行曝光。本发明实施例中,第二表面是第一表面对应的垂直侧立面,甚至第二表面是第一表面对应的向内凹陷的侧立面,专门采用光源对第二表面的负性光刻胶进行曝光,就是在对第一表面的至少部分区域的负性光刻胶、和第一表面的侧立面的负性光刻胶均进行了曝光,对第一表面的侧立面的负性光刻胶曝光较为充分,从很大程度上减少了待曝光件的侧立面曝光不足的问题。

    一种基板涂胶输送装置
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218752893U

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202222675188.2

    申请日:2022-10-11

    摘要: 本实用新型公开一种基板涂胶输送装置,涉及硅片生产加工领域,用于减少湿膜基板的湿膜损伤。该装置包括沿输送方向依次布置的进料传送机构、涂布机构和出料传送带;进料传送机构用于将待涂布基板输送至涂布机构;其中,待涂布基板的下表面具有至少一排沿待涂布基板的输送方向间隔排布的可接触点位;涂布机构用于在待涂布基板的上表面、下表面以及侧面涂布湿膜,形成湿膜基板;出料传送带用于输送湿膜基板,出料传送带的上表面设置有多个沿输送方向间隔排布的支撑凸起,支撑凸起用于对应支撑可接触点位。由于可接触点位上可以不保留湿膜,因此,将湿膜基板由涂布机构输送至出料传送带上,避免了湿膜基板上可接触点位之外的区域的湿膜损伤。

    一种湿膜基板输送装置及基板涂胶输送系统

    公开(公告)号:CN218950161U

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202222674870.X

    申请日:2022-10-11

    IPC分类号: B65G15/00 G03F7/16 G03F7/20

    摘要: 本实用新型公开一种湿膜基板输送装置及基板涂胶输送系统,涉及硅片生产加工技术领域,用于减少湿膜基板的湿膜损伤。包括:基板传输机构,用于支撑湿膜基板的下表面的两侧边缘并输送;预固化单元,包括热固化单元和/或光固化单元;热固化单元位于基板传输机构的输送路径上或位于上料位置处,用于对湿膜基板至少两侧边缘上的湿膜进行预固化;光固化单元位于上料位置处,用于在湿膜基板输送至基板传输机构之前以及输送至上料位置上时,对湿膜基板的两侧边缘上的湿膜进行预固化。预固化单元时将湿膜基板的至少位于两侧边缘上的湿膜预固化,使得在后续输送过程中不易发生湿膜损伤,或对损伤湿膜部分修复。基板涂胶输送系统包含该湿膜基板输送装置。

    一种涂布装置
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218167550U

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202222148955.4

    申请日:2022-08-15

    IPC分类号: B05C1/08 B05C9/04 B05C11/10

    摘要: 本实用新型公开了一种涂布装置,包括:涂布机构和传输机构;涂布机构包括两个涂布滚轮,传输机构用于承载待涂胶件,且将待涂胶件传输向两个涂布滚轮之间,涂布滚轮的涂布面的局部区域为凸起的平面,凸起的平面为连贯的整体平面,在待涂胶件由传输至距离涂布滚轮预设间距的位置时,两个涂布滚轮开始转动,吐胶装置在涂布滚轮的凸起平面上喷涂胶层,吐胶装置完成喷涂胶层后,待涂胶件正好传送至与两个涂布滚轮的凸起平面的一侧接触,随着涂布滚轮的转动完成待涂胶件的涂布步骤,在两个涂布滚轮的凸起平面与待涂胶件之间的挤压作用下,待涂胶件的上下表面与侧立面均可以覆盖胶层,通过设置凸起平面且仅在凸起平面吐胶,大大减少了胶体的挥发量。