-
公开(公告)号：CN115650242A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211462460.7
申请日：2022-11-21
IPC分类号： C01B33/107
摘要： 提供了一种三氯氢硅除碳装置，其包括：储料罐，用于接收四氯化硅原料和含甲基二氯硅烷的三氯氢硅原料，并进行混合以形成第一混合液；反应罐，用于接收所述第一混合液，以使甲基二氯硅烷与四氯化硅反应以生成甲基三氯硅烷，从而形成三氯氢硅、四氯化硅以及甲基三氯硅烷的第二混合液；精馏塔，用于接收所述第二混合液，并将三氯氢硅分离至所述精馏塔的塔顶，且将所述甲基三氯硅烷和四氯化硅分离至所述精馏塔的塔釜。还提供了一种三氯氢硅除碳方法。在本发明中，由于四氯化硅和甲基三氯硅烷的沸点相近，且二者均与三氯氢硅的沸点相差较大，因此在精馏塔分离时可以邮箱将三氯氢硅与四氯化硅和甲基三氯硅烷分离，从而有效去除三氯氢硅中的碳杂质。
-
公开(公告)号：CN110879579B
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN201911096301.8
申请日：2019-11-11
IPC分类号： G05B19/418 , G05D27/02
摘要： 本发明公开了基于多晶硅生产装置DCS系统的还原炉顺序控制方法，具体程序操作步骤为：S1，初始排净顺序控制程序；S2,压力检查顺序控制程序；S3,气体置换顺序控制程序；S4,主反应准备顺序控制程序；S5,主反应阶段物料进料爬坡程序和步骤切换程序；S6,主反应停车顺序控制程序；S7,氮气置换顺序控制程序；S8,抽真空顺序控制程序。本发明实现了高度的自动化顺序控制程序，无需人工频繁的操作，显著降低员工操作频率和劳动强度，减少了人为因素干扰，保证了还原炉的安全稳定运行，同时自动控制程序实现了多晶硅生产过程中进料连续稳定，进而显著提高了产品质量的稳定性。
-
公开(公告)号：CN115930555A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211267042.2
申请日：2022-10-17
摘要： 本发明公开了一种用于多晶硅的干燥装置及干燥方法，所述干燥装置包括：鼓风单元、加热单元和箱体，鼓风单元将洁净的空气加压后鼓入到加热单元；加热单元对鼓入的空气进行加热形成热空气并将热空气通入箱体；箱体承载待干燥的多晶硅；箱体内部形成中空腔体结构，箱体内壁表面覆盖有防腐蚀的保护层，箱体上开设有进风口和出风口，出风口连接有负压单元；箱体还包括顶部设置的箱盖，箱盖使箱体呈密封状态。本发明提供的干燥装置及干燥方法，取消了原有的利用真空泵降低水的沸点并将蒸发的水分不断的抽出的方法，直接通过向多晶硅通入高温度的热空气，让高温度的热空气干燥多晶硅，提高了干燥效率同时降低干燥过程中的能耗。
-
公开(公告)号：CN110879579A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201911096301.8
申请日：2019-11-11
IPC分类号： G05B19/418 , G05D27/02
摘要： 本发明公开了基于多晶硅生产装置DCS系统的还原炉顺序控制方法，具体程序操作步骤为：S1，初始排净顺序控制程序；S2,压力检查顺序控制程序；S3,气体置换顺序控制程序；S4,主反应准备顺序控制程序；S5,主反应阶段物料进料爬坡程序和步骤切换程序；S6,主反应停车顺序控制程序；S7,氮气置换顺序控制程序；S8,抽真空顺序控制程序。本发明实现了高度的自动化顺序控制程序，无需人工频繁的操作，显著降低员工操作频率和劳动强度，减少了人为因素干扰，保证了还原炉的安全稳定运行，同时自动控制程序实现了多晶硅生产过程中进料连续稳定，进而显著提高了产品质量的稳定性。
-
公开(公告)号：CN108721934B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN201810937461.X
申请日：2018-08-16
摘要： 本发明提供了精馏塔的全过程自动控制方法和系统，包括获取开车指令信息，选择控制回路并进行设定值赋值；判断调节阀和泵是否就位，并始终进行冷凝器冷却控制和塔的压力控制；在调节阀和泵就位的情况下，根据各类测量元件通过PID模块控制调节阀开度，并获取精馏塔参数信息；根据精馏塔参数信息选择相应需要启动的泵，通过温度爬坡程序将所需参数升温至相应温度后进入全回流状态；在全回流状态运行预设时长后，进入正常运行状态，并在预设精馏塔参数范围内运行；获取停车指令信息，选择相应的停车方式以完成对精馏塔的全过程自动控制。本发明实现了精馏塔全过程自动控制，极大减少了人为干预，最大限度地减少人为操作造成的系统偏差和扰动，实现工艺参数的精细化稳定控制。
-
公开(公告)号：CN108721934A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810937461.X
申请日：2018-08-16
摘要： 本发明提供了精馏塔的全过程自动控制方法和系统，包括获取开车指令信息，选择控制回路并进行设定值赋值；判断调节阀或泵是否就位，并始终进行冷凝器冷却控制和塔的压力控制；在调节阀或泵就位的情况下，根据各类测量元件通过PID模块控制调节阀开度，并获取精馏塔参数信息；根据精馏塔参数信息选择相应需要启动的泵，通过温度爬坡程序将所需参数升温至相应温度后进入全回流状态；在全回流状态运行预设时长后，进入正常运行状态，并在预设精馏塔参数范围内运行；获取停车指令信息，选择相应的停车方式以完成对精馏塔的全过程自动控制。本发明实现了精馏塔全过程自动控制，极大减少了人为干预，最大限度地减少人为操作造成的系统偏差和扰动，实现工艺参数的精细化稳定控制。
-
公开(公告)号：CN209060584U
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201821325074.2
申请日：2018-08-16
摘要： 本实用新型提供了精馏塔全过程自动控制装置和系统，包括：精馏塔、冷凝器、回流罐、再沸器和泵，其中，泵包括进料泵、釜液泵和回流泵；用于向精馏塔中进料的进料泵与精馏塔相连接，精馏塔的底部分别与用于加热蒸汽的再沸器和釜液泵相连接，精馏塔的顶部与冷凝器相连接，冷凝器与回流罐相连接，回流罐与回流泵相连接。本实用新型实现了精馏塔全过程自动控制，极大减少了人为干预，最大限度地减少人为操作造成的系统偏差和扰动，实现工艺参数的精细化稳定控制。
-
公开(公告)号：CN219945681U
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202320058659.7
申请日：2023-01-07
IPC分类号： B24B27/033 , B24B29/00 , B24B55/00 , B24B41/06 , B24B27/02
摘要： 本实用新型公开了一种多晶硅还原炉抛光清洁装置，具体涉及清洁装置领域，包括支撑板、支腿、底板、进液管、出液管以及炉体，支撑板底端设置有多个支腿，支撑板底端中部安装有底板，底板底部对称安装有进液管和出液管，支撑板顶端支撑安装有炉体，支撑板两侧对称安装有夹持机构，两个夹持机构对炉体两侧进行夹持压接，底板中部安装有抛光清洁机构，抛光清洁机构顶端插入炉体内部，抛光清洁机构两侧安装有伸缩杆，两个伸缩杆顶端插入炉体内部且与抛光清洁机构顶端衔接。本实用新型具有方便对炉体进行固定，防止炉体在抛光清洁时产生振动，且防止伸缩抛光刷对炉体内壁进行清洁抛光时产生硬性碰撞，从而使得抛光更加均匀，清洁更加彻底的优点。
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
8 条记录 (耗时 0.091 秒)
