抛光垫和系统以及制造和使用此类抛光垫和系统的方法

    公开(公告)号:CN106132630B

    公开(公告)日:2019-11-26

    申请号:CN201580017813.4

    申请日:2015-03-31

    摘要: 本发明涉及包括抛光层的抛光垫,其中所述抛光层包括工作表面和与所述工作表面相背对的第二表面。该工作表面包括多个精确成形孔和多个精确成形微凸体中的至少一者。本公开还涉及一种抛光系统,该抛光系统包括上述抛光垫和抛光液。本公开涉及一种抛光基板的方法,该抛光方法包括:提供根据前述抛光垫中任一种的抛光垫;提供基板,将所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面接触,相对彼此移动所述抛光垫和所述基板,同时保持所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面之间的接触,其中抛光是在抛光液的存在下进行的。

    多层抛光垫
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105579194B

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201480052077.1

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: B24B37/22 B24B37/04

    摘要: 本发明公开了一种多层抛光垫布置结构,所述多层抛光垫布置结构包括具有第一顶部主表面和第一底部主表面的第一抛光垫层、具有第二顶部主表面和第二底部主表面的第二抛光垫层、和设置在所述第一底部表面与所述第二顶部表面之间的耦接布置结构。所述第一抛光垫层和所述第二抛光垫层中的每个的厚度在介于0.125mm和10mm之间的范围内。

    抛光垫和系统以及制造和使用该抛光垫和系统的方法

    公开(公告)号:CN106163740A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201580018328.9

    申请日:2015-03-31

    摘要: 本发明涉及一种包括抛光层的抛光垫,其中该抛光层包括工作表面和与该工作表面相背对的第二表面。该工作表面包括底面区域、多个精确成形孔、和多个精确成形微凸体。本公开还涉及一种抛光系统,该抛光系统包括上述抛光垫和抛光液。本公开涉及一种对基板进行抛光的方法,该抛光方法包括:根据前述抛光垫中的任一抛光垫来提供该抛光垫;提供基板;使抛光垫的工作表面与基板表面接触;使抛光垫和基板相对于彼此移动,同时维持抛光垫的工作表面与基板表面之间的接触,其中抛光是在抛光液的存在下进行的。

    抛光垫和系统以及制造和使用此类抛光垫和系统的方法

    公开(公告)号:CN106132630A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201580017813.4

    申请日:2015-03-31

    摘要: 本发明涉及包括抛光层的抛光垫,其中所述抛光层包括工作表面和与所述工作表面相背对的第二表面。该工作表面包括多个精确成形孔和多个精确成形微凸体中的至少一者。本公开还涉及一种抛光系统,该抛光系统包括上述抛光垫和抛光液。本公开涉及一种抛光基板的方法,该抛光方法包括:提供根据前述抛光垫中任一种的抛光垫;提供基板,将所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面接触,相对彼此移动所述抛光垫和所述基板,同时保持所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面之间的接触,其中抛光是在抛光液的存在下进行的。

    多层抛光垫
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105579194A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201480052077.1

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: B24B37/22 B24B37/04

    摘要: 本发明公开了一种多层抛光垫布置结构,所述多层抛光垫布置结构包括具有第一顶部主表面和第一底部主表面的第一抛光垫层、具有第二顶部主表面和第二底部主表面的第二抛光垫层、和设置在所述第一底部表面与所述第二顶部表面之间的耦接布置结构。所述第一抛光垫层和所述第二抛光垫层中的每个的厚度在介于0.125mm和10mm之间的范围内。