多层抛光垫
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105579194B

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201480052077.1

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: B24B37/22 B24B37/04

    摘要: 本发明公开了一种多层抛光垫布置结构,所述多层抛光垫布置结构包括具有第一顶部主表面和第一底部主表面的第一抛光垫层、具有第二顶部主表面和第二底部主表面的第二抛光垫层、和设置在所述第一底部表面与所述第二顶部表面之间的耦接布置结构。所述第一抛光垫层和所述第二抛光垫层中的每个的厚度在介于0.125mm和10mm之间的范围内。

    多层抛光垫
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105579194A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201480052077.1

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: B24B37/22 B24B37/04

    摘要: 本发明公开了一种多层抛光垫布置结构,所述多层抛光垫布置结构包括具有第一顶部主表面和第一底部主表面的第一抛光垫层、具有第二顶部主表面和第二底部主表面的第二抛光垫层、和设置在所述第一底部表面与所述第二顶部表面之间的耦接布置结构。所述第一抛光垫层和所述第二抛光垫层中的每个的厚度在介于0.125mm和10mm之间的范围内。

    复合陶瓷研磨抛光液
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105517758B

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201480049117.7

    申请日:2014-09-22

    IPC分类号: B24B7/20 B24D3/10 B24D3/18

    摘要: 本发明提供了一种抛光液,所述抛光液包含流体组分和多种陶瓷磨料复合物。所述陶瓷磨料复合物包含均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。所述多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃陶瓷材料。所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中。

    复合陶瓷研磨抛光液
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105517758A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201480049117.7

    申请日:2014-09-22

    IPC分类号: B24B7/20 B24D3/10 B24D3/18

    摘要: 本发明提供了一种抛光液,所述抛光液包含流体组分和多种陶瓷磨料复合物。所述陶瓷磨料复合物包含均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。所述多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃陶瓷材料。所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中。