公开(公告)号：CN108220919B

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN201710940998.7

申请日：2017-10-10

申请人： ASM IP控股有限公司

发明人： 山田令子 ,  川原润 ,  佐藤和男

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/50

摘要： 一种适于安装在等离子体沉积设备中的喷淋板，该等离子体沉积设备包括气体入口，喷淋头，反应腔室和排放管，喷淋板适于附接到所述喷淋头并且具有：前表面，所述前表面适于面对所述气体入口；以及与前表面相反的后表面，其中所述喷淋板具有分别从前表面延伸到后表面的多个孔，并且其中所述喷淋板还具有从所述喷淋板的前表面侧延伸到排放管的至少一个孔。

公开(公告)号：CN110016655B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN201910022394.3

申请日：2019-01-09

申请人： ASM IP控股有限公司

发明人： 安达涉 ,  佐藤和男

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 本发明公开了一种用于等离子体沉积设备的喷淋板，该喷淋板包括：多个孔口，所述多个孔口中的每一个都从喷淋板的后表面延伸到前表面以用于使载气沿此方向通过该孔口到达反应室；多个第一孔口，所述多个第一孔口中的每一个都从第一连接孔口延伸到前表面的内部部分以用于使气体沿此方向通过该第一孔口到达反应室；以及多个第二孔口，所述多个第二孔口中的每一个都从第二连接孔口延伸到前表面的外部部分以用于使气体沿此方向通过该第二孔口到达反应室，其中第一连接孔口将第一孔口连接到从喷淋板的侧壁侧延伸的至少一个第一孔口，第二连接孔口将第二孔口连接到从侧壁侧延伸的至少一个第二孔口。

公开(公告)号：CN108220919A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201710940998.7

申请日：2017-10-10

申请人： ASM IP控股有限公司

发明人： 山田令子 ,  川原润 ,  佐藤和男

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C16/4412 ,  B05B16/60 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/50

摘要： 一种适于安装在等离子体沉积设备中的喷淋板，该等离子体沉积设备包括气体入口，喷淋头，反应腔室和排放管，喷淋板适于附接到所述喷淋头并且具有：前表面，所述前表面适于面对所述气体入口；以及与前表面相反的后表面，其中所述喷淋板具有分别从前表面延伸到后表面的多个孔，并且其中所述喷淋板还具有从所述喷淋板的前表面侧延伸到排放管的至少一个孔。