公开(公告)号：CN118818920A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202411200404.5

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。

公开(公告)号：CN113227904A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980085779.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。

公开(公告)号：CN113227904B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN201980085779.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。

公开(公告)号：CN114586139A

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN202080072366.3

申请日：2020-10-05

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  M·A·范德柯克霍夫 ,  D·L·哈勒 ,  C·J·马森 ,  亚瑟·温弗里德·爱德华达斯·明内尔特 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  S·A·内菲

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  G03F7/20

Abstract: 本文的实施例描述了用于使用增强式静电夹具减小夹具‑掩模版界面处的电场的方法、装置和系统。具体地，所述静电夹具包括夹具本体、设置在所述夹具本体的顶表面上的电极层以及从所述夹具本体的底表面突出的多个突节，其中所述电极层包括预定位置处的多个切口，所述预定位置竖直地对应于所述夹具本体的所述顶表面处的所述多个突节的位置。