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公开(公告)号：CN110945435A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049194.0
申请日：2018-06-28
申请人： ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 一种设计用于将图案形成装置耦接到具有多个突节的支撑结构的系统，包括照相机模块、致动器和控制器。照相机模块被设计成捕获图案形成装置的背面的图像数据。致动器被耦接到多个突节中的至少一个突节，并且被设计为移动所述至少一个突节。控制器被设计为接收来自照相机模块的被捕获的图像数据，并根据图像数据确定图案形成装置的背面上的一个或更多个污染物部位。所述控制器还被设计为控制所述致动器，以基于所确定的污染物部位，使所述多个突节中的所述至少一个突节被移动远离所述图案形成装置的背面上的所述一个或更多个污染物部位。
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公开(公告)号：CN116157742A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180060273.3
申请日：2021-06-29
申请人： ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本文的实施例描述了用于光刻设备中的图案形成装置处置设备和支撑结构处的掩模版的热调节的系统、方法和装置。图案形成装置处置设备包括具有多个气动管线(530)的夹持装置(510)。图案形成装置处置设备将图案形成装置(502)的第一表面定位在夹持装置下方，夹持装置使用多个气动管线将第一空气流施加到图案形成装置。图案形成装置处置设备将图案形成装置的第二表面定位在支撑结构中。支撑结构中的夹紧界面(506)中的一个或多个真空焊盘(516)将第二空气流(520)施加到图案形成装置。第一空气流和第二空气流导致图案形成装置的热调节。
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公开(公告)号：CN113227904B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN201980085779.2
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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公开(公告)号：CN109690406A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780054845.0
申请日：2017-08-18
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/687
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70716 , G03F7/709 , G03F7/70916 , H01L21/68785
摘要： 一种光刻设备可以包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还可以包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体。
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公开(公告)号：CN118818920A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202411200404.5
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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公开(公告)号：CN110945435B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201880049194.0
申请日：2018-06-28
申请人： ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 一种设计用于将图案形成装置耦接到具有多个突节的支撑结构的系统，包括照相机模块、致动器和控制器。照相机模块被设计成捕获图案形成装置的背面的图像数据。致动器被耦接到多个突节中的至少一个突节，并且被设计为移动所述至少一个突节。控制器被设计为接收来自照相机模块的被捕获的图像数据，并根据图像数据确定图案形成装置的背面上的一个或更多个污染物部位。所述控制器还被设计为控制所述致动器，以基于所确定的污染物部位，使所述多个突节中的所述至少一个突节被移动远离所述图案形成装置的背面上的所述一个或更多个污染物部位。
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公开(公告)号：CN115461683A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030432.5
申请日：2021-04-08
申请人： ASML控股股份有限公司
摘要： 提供了检查系统(1600)、光刻设备和检查方法。检查系统(1600)包括照射系统(1602)、检测系统(1606)和处理电路(1622)。照射系统生成在第一波长下的第一照射束(1610)和在第二波长下的第二照射束(1618)。第一波长不同于第二波长。照射系统使用第一照射束和第二照射束来同时辐射物体(1612)。检测系统接收由物体的表面(1626)处存在的颗粒(1624)所散射的在第一波长下的辐射(1620)。检测系统生成检测信号。处理电路基于检测信号来确定颗粒的特性。
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公开(公告)号：CN113227904A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980085779.2
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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公开(公告)号：CN111480113A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880080540.1
申请日：2018-11-27
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 德克·S·G·布龙 , J·亚当斯 , A·本迪克塞 , R·雅克布 , A·贾奇 , V·V·N·N·P·科塔帕利 , J·H·里昂 , T·M·默德曼 , M·兰詹 , M·A·范德克尔克霍夫 , 熊绪刚
摘要： 一种用于确定与用于光刻设备(LA)中的表膜(19)相关的状态的设备，该设备包括传感器(26、32、52、60)，其中，该传感器(26、32、52、60)被配置为测量与该表膜(19)相关的属性，该属性指示表膜状态。
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