公开(公告)号：CN113227904B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN201980085779.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。

公开(公告)号：CN118818920A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202411200404.5

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。

公开(公告)号：CN113227904A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980085779.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： J·J·隆巴尔多 ,  R·P·奥尔布赖特 ,  D·L·哈勒 ,  V·A·佩雷斯-福尔肯 ,  A·贾奇

IPC: G03F7/20

Abstract: 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。