公开(公告)号：CN112997117A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201980071827.2

申请日：2019-10-21

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： R·C·卡卢里

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种用于使用气动传感器来测量掩模版变形的系统和方法，其中喷嘴沿掩模版的侧面被放置，并且气动传感器生成指示传感器与掩模版的侧面的部分之间的距离的输出信号。来自传感器的掩模版变形测量结果可以被用作掩模版加热控制的输入。

公开(公告)号：CN115461683A

公开(公告)日：2022-12-09

申请号：CN202180030432.5

申请日：2021-04-08

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： A·贾奇 ,  R·C·卡卢里 ,  M·E·帕洛夫斯基 ,  J·H·瓦尔什 ,  J·L·克鲁泽

IPC分类号： G03F1/84 ,  G01N21/88 ,  G01N21/94 ,  G03F7/20

摘要： 提供了检查系统(1600)、光刻设备和检查方法。检查系统(1600)包括照射系统(1602)、检测系统(1606)和处理电路(1622)。照射系统生成在第一波长下的第一照射束(1610)和在第二波长下的第二照射束(1618)。第一波长不同于第二波长。照射系统使用第一照射束和第二照射束来同时辐射物体(1612)。检测系统接收由物体的表面(1626)处存在的颗粒(1624)所散射的在第一波长下的辐射(1620)。检测系统生成检测信号。处理电路基于检测信号来确定颗粒的特性。