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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107743599A
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201680035202.7
申请日：2016-06-06
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Abstract: 诸如光刻设备的设备具有量测框架，量测框架具有安装在其上的参考框架，参考框架包括参考表面。气量计相对于参考框架、量测框架和被测表面可移动。气量计中的参考喷嘴向参考表面提供气体，并且测量喷嘴向被测表面提供气体。MEMS传感器可以与气量计一起使用，以感测来自参考喷嘴和测量喷嘴中的每个喷嘴的背压的差。可选地，多个气量计被定位在阵列中，阵列可以在基本上平行于被测表面的平面的方向上延伸。计量器可以被流体连接到气量计的参考喷嘴。通道可以跨越阵列分配气体。
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公开(公告)号：CN115461683A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030432.5
申请日：2021-04-08
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 提供了检查系统(1600)、光刻设备和检查方法。检查系统(1600)包括照射系统(1602)、检测系统(1606)和处理电路(1622)。照射系统生成在第一波长下的第一照射束(1610)和在第二波长下的第二照射束(1618)。第一波长不同于第二波长。照射系统使用第一照射束和第二照射束来同时辐射物体(1612)。检测系统接收由物体的表面(1626)处存在的颗粒(1624)所散射的在第一波长下的辐射(1620)。检测系统生成检测信号。处理电路基于检测信号来确定颗粒的特性。
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公开(公告)号：CN118963073A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411361641.X
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 本公开的实施例涉及用于清洁光刻设备内的支撑件的设备和方法。一种用于清洁光刻系统中的支撑结构的表面的设备和方法，其中，清洁衬底具有至少一个电机，该至少一个电机使清洁衬底跨越该表面横向移动。清洁衬底可以设置有电源，该电源被安装在清洁衬底上并且可选择地电连接到电机。
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