公开(公告)号：CN101866112B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201010111032.0

申请日：2010-02-02

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： S·E·戴尔普尔托 ,  E·佐丹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70825 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

Abstract: 本发明提供一种减少掩模版滑移的掩模版支撑装置。具体地，提供一种基本上消除在掩模版台移动期间的掩模版滑移或滑动的系统和方法。所述系统包括掩模保持系统、掩模驱动装置和支撑装置传送装置。掩模保持系统包括支撑装置和保持装置，其中所述保持装置将例如图案形成装置(例如具有图案的掩模版)的掩模可释放地耦合到支撑装置。掩模驱动装置可释放地连接到掩模以便提供加速力给掩模，使得光刻设备中的投影光学系统可以通过使用辐射束将由图案形成装置赋予的图案精确地投影到衬底的目标部分上。支撑装置传送装置耦合至所述掩模支撑装置，并同时地移动所述掩模支撑装置和所述掩模驱动装置。

公开(公告)号：CN101866112A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010111032.0

申请日：2010-02-02

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： S·E·戴尔普尔托 ,  E·佐丹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70825 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

Abstract: 本发明提供一种减少掩模版滑移的掩模版支撑装置。具体地，提供一种基本上消除在掩模版台移动期间的掩模版滑移或滑动的系统和方法。所述系统包括掩模保持系统、掩模驱动装置和支撑装置传送装置。掩模保持系统包括支撑装置和保持装置，其中所述保持装置将例如图案形成装置(例如具有图案的掩模版)的掩模可释放地耦合到支撑装置。掩模驱动装置可释放地连接到掩模以便提供加速力给掩模，使得光刻设备中的投影光学系统可以通过使用辐射束将由图案形成装置赋予的图案精确地投影到衬底的目标部分上。支撑装置传送装置耦合至所述掩模支撑装置，并同时地移动所述掩模支撑装置和所述掩模驱动装置。