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公开(公告)号：CN102594084B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201110450010.1
申请日：2011-12-29
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·佐丹
CPC classification number: H02K9/22 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H02K9/19 , H02K41/03 , Y10T29/49004
Abstract: 一种用于设计用于真空环境的线性电机的系统和方法。所述线性电机包括芯部和壳体。芯部包括多个冷却板和夹在多个冷却板之间的多个电线圈。芯部还包括定位在多个电线圈和多个冷却板之间的多个导热环氧树脂层，以及设置在多个电线圈和多个冷却板之间以确定多个电线圈和多个冷却板之间的距离的多个垫片。独立地并且在被组装到壳体内之前组装和测试芯部。壳体包围芯部，并且包括主体、多个馈通结构和盖。
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公开(公告)号：CN110268331B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN201880011018.8
申请日：2018-01-17
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法，该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。
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公开(公告)号：CN101866112B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010111032.0
申请日：2010-02-02
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明提供一种减少掩模版滑移的掩模版支撑装置。具体地，提供一种基本上消除在掩模版台移动期间的掩模版滑移或滑动的系统和方法。所述系统包括掩模保持系统、掩模驱动装置和支撑装置传送装置。掩模保持系统包括支撑装置和保持装置，其中所述保持装置将例如图案形成装置(例如具有图案的掩模版)的掩模可释放地耦合到支撑装置。掩模驱动装置可释放地连接到掩模以便提供加速力给掩模，使得光刻设备中的投影光学系统可以通过使用辐射束将由图案形成装置赋予的图案精确地投影到衬底的目标部分上。支撑装置传送装置耦合至所述掩模支撑装置，并同时地移动所述掩模支撑装置和所述掩模驱动装置。
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公开(公告)号：CN112154377A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201980034220.7
申请日：2019-05-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·佐丹
IPC: G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/683 , B24B27/00
Abstract: 公开了一种专用的粗糙化衬底，其被设置有适用于在半导体光刻装置中对夹具的表面进行原位粗糙化的磨料元件。还公开了一种使用所述粗糙化衬底的方法，其中所述粗糙化衬底被装载，被定位成与所述夹具相对，并且然后被压向所述夹具并被横向移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102594084A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110450010.1
申请日：2011-12-29
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·佐丹
CPC classification number: H02K9/22 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H02K9/19 , H02K41/03 , Y10T29/49004
Abstract: 一种用于设计用于真空环境的线性电机的系统和方法。所述线性电机包括芯部和壳体。芯部包括多个冷却板和夹在多个冷却板之间的多个电线圈。芯部还包括定位在多个电线圈和多个冷却板之间的多个导热环氧树脂层，以及设置在多个电线圈和多个冷却板之间以确定多个电线圈和多个冷却板之间的距离的多个垫片。独立地并且在被组装到壳体内之前组装和测试芯部。壳体包围芯部，并且包括主体、多个馈通结构和盖。
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公开(公告)号：CN119556530A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411700647.5
申请日：2019-05-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·佐丹
IPC: G03F7/20 , B24B27/00 , H01L21/68 , H01L21/687
Abstract: 公开了一种专用的粗糙化衬底，其被设置有适用于在半导体光刻装置中对夹具的表面进行原位粗糙化的磨料元件。还公开了一种使用所述粗糙化衬底的方法，其中所述粗糙化衬底被装载，被定位成与所述夹具相对，并且然后被压向所述夹具并被横向移动。
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公开(公告)号：CN112154377B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201980034220.7
申请日：2019-05-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·佐丹
IPC: G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/683 , B24B27/00
Abstract: 公开了一种专用的粗糙化衬底，其被设置有适用于在半导体光刻装置中对夹具的表面进行原位粗糙化的磨料元件。还公开了一种使用所述粗糙化衬底的方法，其中所述粗糙化衬底被装载，被定位成与所述夹具相对，并且然后被压向所述夹具并被横向移动。
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公开(公告)号：CN110268331A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201880011018.8
申请日：2018-01-17
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法，该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。
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公开(公告)号：CN101866112A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010111032.0
申请日：2010-02-02
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明提供一种减少掩模版滑移的掩模版支撑装置。具体地，提供一种基本上消除在掩模版台移动期间的掩模版滑移或滑动的系统和方法。所述系统包括掩模保持系统、掩模驱动装置和支撑装置传送装置。掩模保持系统包括支撑装置和保持装置，其中所述保持装置将例如图案形成装置(例如具有图案的掩模版)的掩模可释放地耦合到支撑装置。掩模驱动装置可释放地连接到掩模以便提供加速力给掩模，使得光刻设备中的投影光学系统可以通过使用辐射束将由图案形成装置赋予的图案精确地投影到衬底的目标部分上。支撑装置传送装置耦合至所述掩模支撑装置，并同时地移动所述掩模支撑装置和所述掩模驱动装置。
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