公开(公告)号：CN106796406B

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201580045832.8

申请日：2015-05-29

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： E·W·埃伯特 ,  F·G·C·比基恩

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括第一光阑和第二光阑，第一光阑用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过，第二光阑用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及所述光学系统下游的辐射检测器，其用以接收所述非零阶辐射。

公开(公告)号：CN106796406A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201580045832.8

申请日：2015-05-29

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： E·W·埃伯特 ,  F·G·C·比基恩

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括第一光阑和第二光阑，第一光阑用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过，第二光阑用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及所述光学系统下游的辐射检测器，其用以接收所述非零阶辐射。

公开(公告)号：CN116635793A

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202180085336.0

申请日：2021-12-09

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： P·J·雷佐·蒂亚戈 ,  G·G·沃伊沃德金 ,  E·W·埃伯特

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于光刻设备中的掩模版载物台的掩模版载物台清洁设备包括具有正面和与正面相对的背面的衬底、以及设置在衬底的正面上的传导层。传导层被配置为接触掩模版载物台以消散掩模版载物台上的电荷，并且经由在传导层与掩模版载物台之间生成的静电场去除掩模版载物台上的颗粒。衬底可以包括多个凹槽，并且传导层可以设置在衬底的正面上和多个凹槽的底表面上。掩模版载物台清洁设备可以包括第二传导层，第二传导层被配置为经由第二静电场去除掩模版载物台上的颗粒，并且在多个凹槽的底表面中设置在传导层顶上。

公开(公告)号：CN115989460A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202180052255.0

申请日：2021-07-24

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： E·W·埃伯特 ,  罗克珊娜·雷兹瓦尼纳拉吉

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种量测系统，包括分束器、第一传感器和第二传感器。分束器将由目标散射的散射辐射分成辐射的第一部分和第二部分。第一传感器接收第一部分。第二传感器在第二部分沿着包括楔形系统的路径传播之后接收第二部分，所述楔形系统包括被配置为使第二部分偏向的第一楔形件。