公开(公告)号：CN104662480B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201380049621.2

申请日：2013-08-27

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： M·成达 ,  S·鲁 ,  T·德威尔特 ,  I·阿蒂斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G01B11/2513 ,  G01D5/347 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085

摘要： 本发明公开了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成保持图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备还包括编码器头，设计成扫描图案形成装置的表面，以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上的变形和在基本上垂直于图案形成装置的表面的第二方向上的变形。

公开(公告)号：CN104662480A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380049621.2

申请日：2013-08-27

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： M·成达 ,  S·鲁 ,  T·德威尔特 ,  I·阿蒂斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G01B11/2513 ,  G01D5/347 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085

摘要： 本发明公开了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成保持图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备还包括编码器头，设计成扫描图案形成装置的表面，以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上的变形和在基本上垂直于图案形成装置的表面的第二方向上的变形。