-
公开(公告)号:CN114556223A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202080071855.7
申请日:2020-09-25
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人: T·M·T·A·M·埃拉扎里 , 罗伯特·约翰·索卡 , S·鲁 , S·R·胡伊斯曼
摘要: 本文描述具有子分段光栅结构作为量测标记的半导体器件的结构和用于配置所述量测标记的方法。用于配置量测标记的方法可以用于光刻过程中。所述方法包括确定设置于叠置层内的初始量测标记的初始特性函数。所述方法还包括使所述量测标记的多个子分段的一个或更多个变量(例如所述多个子分段的节距、占空比和/或线宽)扰动以及另外使所述叠置层内的一个或更多个层的厚度扰动。所述方法还包括迭代地执行扰动,直到确定初始量测标记的最小化特性函数以设置用于所述多个子分段的配置为止。
-
公开(公告)号:CN107172884A
公开(公告)日:2017-09-15
申请号:CN201580062446.X
申请日:2015-11-16
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人: M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
CPC分类号: G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825 , G03F1/62
摘要: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件,所述掩模组件包括:图案形成装置;和表膜框架,所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上;其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架,使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙;且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
-
公开(公告)号:CN104662480A
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:CN201380049621.2
申请日:2013-08-27
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70191 , G01B11/2513 , G01D5/347 , G03F7/70716 , G03F7/70783 , G03F7/7085
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,包括:照射系统,配置成调节辐射束;支撑件,构造成保持图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束;衬底台,构造成保持衬底;投影系统,配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备还包括编码器头,设计成扫描图案形成装置的表面,以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上的变形和在基本上垂直于图案形成装置的表面的第二方向上的变形。
-
公开(公告)号:CN118732413A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202410766698.1
申请日:2020-08-05
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人: M·斯维拉姆 , S·鲁 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , A·J·登博夫
摘要: 一种传感器装置包括传感器芯片、照射系统、第一光学系统、第二光学系统和检测器系统。照射系统耦合到传感器芯片并且沿着照射路径透射照射光束。第一光学系统耦合到传感器芯片并且包括第一集成光学配置以配置照射光束并且将其朝向衬底上的衍射目标透射,与传感器芯片相邻设置,并且生成信号光束,该信号光束包括由衍射目标生成的衍射级子光束。第二光学系统耦合到传感器芯片并且包括第二集成光学配置以收集信号光束并且将其从传感器芯片的第一侧朝向第二侧透射。检测器系统被配置为基于由第二光学系统透射的信号光束来测量衍射目标的特点。
-
公开(公告)号:CN114303100B
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202080060542.1
申请日:2020-08-05
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人: M·斯维拉姆 , S·鲁 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , A·J·登博夫
摘要: 一种传感器装置包括传感器芯片、照射系统、第一光学系统、第二光学系统和检测器系统。照射系统耦合到传感器芯片并且沿着照射路径透射照射光束。第一光学系统耦合到传感器芯片并且包括第一集成光学配置以配置照射光束并且将其朝向衬底上的衍射目标透射,与传感器芯片相邻设置,并且生成信号光束,该信号光束包括由衍射目标生成的衍射级子光束。第二光学系统耦合到传感器芯片并且包括第二集成光学配置以收集信号光束并且将其从传感器芯片的第一侧朝向第二侧透射。检测器系统被配置为基于由第二光学系统透射的信号光束来测量衍射目标的特点。
-
公开(公告)号:CN114303100A
公开(公告)日:2022-04-08
申请号:CN202080060542.1
申请日:2020-08-05
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人: M·斯维拉姆 , S·鲁 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , A·J·登博夫
摘要: 一种传感器装置包括传感器芯片、照射系统、第一光学系统、第二光学系统和检测器系统。照射系统耦合到传感器芯片并且沿着照射路径透射照射光束。第一光学系统耦合到传感器芯片并且包括第一集成光学配置以配置照射光束并且将其朝向衬底上的衍射目标透射,与传感器芯片相邻设置,并且生成信号光束,该信号光束包括由衍射目标生成的衍射级子光束。第二光学系统耦合到传感器芯片并且包括第二集成光学配置以收集信号光束并且将其从传感器芯片的第一侧朝向第二侧透射。检测器系统被配置为基于由第二光学系统透射的信号光束来测量衍射目标的特点。
-
公开(公告)号:CN116635795A
公开(公告)日:2023-08-22
申请号:CN202180086361.0
申请日:2021-12-02
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人: A·J·A·贝克曼 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , S·鲁 , S·索科洛夫 , F·阿尔佩吉安尼
IPC分类号: G03F9/00
摘要: 一种方法,包括:用顺序照射镜头辐照目标结构;将来自所述目标结构的散射束朝向成像检测器引导;使用所述成像检测器来产生检测信号;以及至少基于所述检测信号来确定所述目标结构的性质。顺序照射镜头中的每个照射镜头的积分时间被选择以降低低频误差。
-
公开(公告)号:CN115840333A
公开(公告)日:2023-03-24
申请号:CN202211280390.3
申请日:2015-11-16
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人: M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
摘要: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件,所述掩模组件包括:图案形成装置;和表膜框架,所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上;其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架,使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙;且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
-
公开(公告)号:CN107172884B
公开(公告)日:2022-11-04
申请号:CN201580062446.X
申请日:2015-11-16
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人: M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
摘要: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件,所述掩模组件包括:图案形成装置;和表膜框架,所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上;其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架,使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙;且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
-
公开(公告)号:CN104662480B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201380049621.2
申请日:2013-08-27
申请人: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70191 , G01B11/2513 , G01D5/347 , G03F7/70716 , G03F7/70783 , G03F7/7085
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,包括:照射系统,配置成调节辐射束;支撑件,构造成保持图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束;衬底台,构造成保持衬底;投影系统,配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备还包括编码器头,设计成扫描图案形成装置的表面,以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上的变形和在基本上垂直于图案形成装置的表面的第二方向上的变形。
-
-
-
-
-
-
-
-
-