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公开(公告)号：CN102822749A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180017276.5
申请日：2011-02-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883
Abstract: 公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。所述光刻设备被构造以通过使用隔室(936)减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应，所述隔室(936)提供围绕所述移动部分的基本上封闭的环境。
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公开(公告)号：CN102834777B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN102782581B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180010568.6
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70891 , G02B7/028 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装置列或其一部分上引起热负载。光刻设备被构造或操作用于减小热负载对光刻设备的操作的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102834777A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN102782581A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180010568.6
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70891 , G02B7/028 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装置列或其一部分上引起热负载。光刻设备被构造或操作用于减小热负载对光刻设备的操作的影响。
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公开(公告)号：CN102822749B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201180017276.5
申请日：2011-02-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883
Abstract: 公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。所述光刻设备被构造以通过使用隔室(936)减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应，所述隔室(936)提供围绕所述移动部分的基本上封闭的环境。
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公开(公告)号：CN102844713B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201180010585.X
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得·德亚格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , 埃里克·弗瑞特茨 , 阿尔伯特·德克 , 约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克 , 汉瑞克·德曼 , 埃尔温·约翰·范茨韦特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70258 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。
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公开(公告)号：CN102844713A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010585.X
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得·德亚格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , 埃里克·弗瑞特茨 , 阿尔伯特·德克 , 约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克 , 汉瑞克·德曼 , 埃尔温·约翰·范茨韦特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70258 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。
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