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公开(公告)号：CN104115068B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380010004.1
申请日：2013-01-24
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B6/4296 , G03F7/7015 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70391 , G03F7/704 , Y10T29/49
摘要： 一种装置，具有由对于穿过波导的辐射为透明的材料的连续本体形成的波导，其中本体具有输入表面和输出表面，以及配置用于冷却输入表面和/或输出表面的冷却器。一种曝光设备，具有：包括多个辐射发射器的可编程图案形成装置，其配置用于提供多个辐射束；以及投射系统，包括固定部分和移动部分，投射系统配置用于将多个辐射束投射到基于图案而选择的目标上的位置上，其中至少一个辐射发射器包括配置用于输出包括非偏振和/或圆偏振辐射的辐射束的波导。
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公开(公告)号：CN102834777B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70391
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN105324722A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201480035425.4
申请日：2014-06-20
申请人： 业纳光学系统有限公司
CPC分类号： G02B26/126 , G02B26/124 , G02B27/0031 , G03F7/704
摘要： 本发明涉及一种扫描装置，其包括光源(1)、具有多面镜(2.1)的扫描单元(2)、前置扫描光学件(3)和后置扫描光学件(4)，其中，前置扫描光学件(3)前置于多面镜(2.1)，使得来自光源(1)的射线束(1.1)在交叉扫描平面中以入射角(α)照射到多面镜(2.1)上，并且后置扫描光学件的光学轴线(4.0)沿多面镜(2.1)的反射方向布置。通过如下方式使在光源(1)成像到扫描线(5)上时出现的失真，即梯形失真和扫描弧最小化，即，后置扫描光学件(4)的柱镜(4.2)在交叉扫描平面中相对于多面镜(2.1)的面法线以第一倾斜角(β)倾斜，并且扫描光学件(4)的两个修正透镜中的一个(4.1.1、4.1.2)相对于后置扫描光学件的光学轴线(4.0)以第二倾斜角(γ)倾斜并且错开了间距(a)地布置。
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公开(公告)号：CN102770811B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180010632.0
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70516 , G03F7/70558
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列或其一部分。设置光学传感器装置，所述光学传感器装置相对于光学装置列是可移动的且具有能够使得所述光学传感器装置(936)移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域(940)的移动范围以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。
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公开(公告)号：CN104272192A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380022486.2
申请日：2013-05-06
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70391 , G03F7/704 , H01S3/109 , H01S5/141 , H01S5/183 , H01S5/423
摘要： 一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为引导多个辐射束更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。还描述了相应的光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法和器件制造方法。
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公开(公告)号：CN102763041B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201180010292.1
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391
摘要： 公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确定参考物体(938)上的聚焦品质，聚焦致动器配置成基于已确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。
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公开(公告)号：CN103597404A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027886.8
申请日：2012-03-07
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70191 , G02F1/1303 , G02F1/29 , G03F7/704
摘要： 在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括：调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。
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公开(公告)号：CN101346669B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200680049177.4
申请日：2006-10-26
申请人： 麦克罗尼克激光系统公司
发明人： 托布乔恩·桑德斯特罗姆
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70391
摘要： 本发明涉及一种在诸如用于电子显示器件诸如LCD的玻璃片和/或塑料片的工件上写入图案。可以使用大于大约1500mm的工件。可以使用具有多个写入单元的光学写入头。工件和写入头相对彼此移动，以提供倾斜的写入。
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公开(公告)号：CN101558360B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200780045723.1
申请日：2007-12-07
申请人： 克列奥机械制造股份公司
发明人： 汉斯·奥普韦
CPC分类号： G03F7/70791 , G02B26/123 , G03F7/70383 , G03F7/704
摘要： 用于在布置在物体上的感光层中产生曝光结构的曝光设备，包括载物台和曝光装置，其中，载物台和曝光装置在进给方向上可彼此相对运动，并且其中，借助曝光装置可横向于进给方向地在感光层上位置控制地产生曝光光斑，为了如此改进该曝光设备，以使得尽可能高的曝光功率可供使用，也就是说每个单位时间能够产生尽可能大数量的曝光光斑，提出，曝光装置具有至少一个曝光单元，所述曝光单元具有一排在排列方向上相互跟随地布置的辐射出口区域，从所述辐射出口区域射出曝光光束，由这些曝光光束通过将每一个曝光光束引导穿过成像镜头而可以在感光层上产生曝光光斑，并且曝光光束中的每一个都可由偏转单元在横向于排列方向延伸的偏转方向上偏转，从而借助每个曝光光束在偏转方向上在若干相互跟随的曝光光斑位置上可产生彼此至少部分重叠的曝光光斑。
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公开(公告)号：CN101185032A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200680018228.7
申请日：2006-05-19
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/704 , H05K3/0082
摘要： 一种图像处理装置，能实现对描绘用栅格数据的目测检查的省力化。在通过RIP处理把表示在基板上直接描绘的布线图形的矢量形式的图像数据(戈博数据)展开为描绘用栅格数据之前，若指示布线图形的栅格显示，则把戈博数据向低分辩率栅格数据展开，把戈博数据所表示的布线图形整体作为低分辩率的整体形象图像而显示在栅格显示画面内的整体形象显示区域，若在整体形象图像上指定详细显示对象的单件或片材或任意详细显示范围，则只把戈博数据中的与指定了的详细显示范围相当的数据向高分辨率的栅格数据展开，将其作为表示详细显示范围内的布线图形的详细显示图像而显示在栅格显示画面内的详细显示区域。还有，若在详细显示图像上指示指定了的2点间的距离的运算·显示，则运算、显示指定了的2点间的距离。
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