公开(公告)号：CN116670577A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202180079427.3

申请日：2021-10-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 彼得·迈克尔·克劳斯 ,  S·D·C·罗斯卡门阿丁 ,  菲律浦·坎皮 ,  张庄严 ,  P·W·斯摩奥伦堡 ,  林楠 ,  斯特凡·米歇尔·维特 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC分类号： G02F1/35

摘要： 公开了一种量测设备及相关方法，量测设备用于测量通过光刻过程在衬底上形成的目标。量测设备包括：辐射源，可操作以提供第一辐射；经配置的固体高次谐波产生介质，被配置成接收第一辐射，并被第一辐射激励，以从经配置的固体高次谐波产生介质的输出表面产生高次谐波第二辐射；以及检测布置，可操作以检测第二辐射，第二辐射的至少一部分被目标散射。经配置的固体高次谐波产生介质被配置成整形第二辐射的束，和/或分离第一辐射与第二辐射。

公开(公告)号：CN116490766A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202180079048.4

申请日：2021-10-12

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 彼得·迈克尔·克劳斯 ,  S·D·C·罗斯卡门阿丁 ,  菲律浦·坎皮 ,  张庄严 ,  P·W·斯摩奥伦堡 ,  林楠 ,  斯特凡·米歇尔·维特 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC分类号： G01N21/47

摘要： 披露了用于测量衬底上的衍射结构的量测设备和方法。所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源能够操作以提供第一辐射以用于激发所述衍射结构，使得从所述衍射结构和/或衬底产生高阶谐波的第二辐射；以及检测装置，所述检测装置能够操作以检测所述第二辐射，所述第二辐射的至少一部分已经由所述衍射结构衍射。