公开(公告)号：CN116648722A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202180086259.0

申请日：2021-12-09

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 徐慧娜 ,  Y·玛特苏施塔 ,  T·哈桑 ,  寇人杰 ,  N·戈尔 ,  李红梅 ,  M·皮萨伦科 ,  M·库伊曼 ,  C·巴蒂斯塔基斯 ,  J·奥努勒

IPC: G06T7/00

Abstract: 公开了一种用于分析第一晶片上的第一区域的输入电子显微镜图像的方法和装置。该方法包括从输入电子显微镜图像获取与多个可解释模式相对应的多个模式图像。该方法还包括评估多个模式图像，并且基于评估结果确定多个可解释模式对输入电子显微镜图像的贡献。该方法还包括基于所确定的贡献来预测第一晶片上的第一区域中的一个或多个特性。在一些实施例中，还公开了一种用于基于晶片的输入电子显微镜图像来执行自动根本原因分析的方法和装置。

公开(公告)号：CN112969968A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201980073547.5

申请日：2019-10-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 黄文谨 ,  李红梅 ,  徐慧娜 ,  B·拉方丹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文中描述的是一种用于确定概率模型的方法，该概率模型被配置为预测受图案化处理的衬底的图案的特性(例如，缺陷、CD等)。该方法包括获取与衬底上的图案的特性相对应的残差的分布的空间图，基于在空间图内的残差的分布的变化来确定空间图的区域，以及基于区域和区域内的衬底上的残差的值的分布或图案的特性的值的分布来确定概率模型。

公开(公告)号：CN112969968B

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN201980073547.5

申请日：2019-10-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 黄文谨 ,  李红梅 ,  徐慧娜 ,  B·拉方丹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文中描述的是一种用于确定概率模型的方法，该概率模型被配置为预测受图案化处理的衬底的图案的特性(例如，缺陷、CD等)。该方法包括获取与衬底上的图案的特性相对应的残差的分布的空间图，基于在空间图内的残差的分布的变化来确定空间图的区域，以及基于区域和区域内的衬底上的残差的值的分布或图案的特性的值的分布来确定概率模型。