-
公开(公告)号：CN110869854B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201880046240.1
申请日：2018-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，以及获得非概率模型残差分布的属性的方法。
-
公开(公告)号：CN112969968A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980073547.5
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中描述的是一种用于确定概率模型的方法，该概率模型被配置为预测受图案化处理的衬底的图案的特性(例如，缺陷、CD等)。该方法包括获取与衬底上的图案的特性相对应的残差的分布的空间图，基于在空间图内的残差的分布的变化来确定空间图的区域，以及基于区域和区域内的衬底上的残差的值的分布或图案的特性的值的分布来确定概率模型。
-
公开(公告)号：CN110869854A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880046240.1
申请日：2018-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，以及获得非概率模型残差分布的属性的方法。
-
公开(公告)号：CN110088689B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201780079785.8
申请日：2017-11-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种确定形貌的方法，该方法包括：获得第一聚焦值，所述第一聚焦值从对未经图案化的衬底的图案化建模的计算光刻模型导出或从未经图案化的衬底上的图案化层的测量导出；获得第二聚焦值，所述第二聚焦值从具有形貌的衬底的测量导出；和根据第一聚焦值和第二聚焦值确定所述形貌的值。
-
公开(公告)号：CN112969968B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN201980073547.5
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中描述的是一种用于确定概率模型的方法，该概率模型被配置为预测受图案化处理的衬底的图案的特性(例如，缺陷、CD等)。该方法包括获取与衬底上的图案的特性相对应的残差的分布的空间图，基于在空间图内的残差的分布的变化来确定空间图的区域，以及基于区域和区域内的衬底上的残差的值的分布或图案的特性的值的分布来确定概率模型。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117378030A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280036314.X
申请日：2022-03-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/26
Abstract: 公开了一种对带电粒子检查系统执行自诊断的改进方法。一种改进方法包括：基于带电粒子检查系统的输出数据来触发自诊断；响应于对自诊断的触发，接收带电粒子检查系统的子系统的诊断数据；基于子系统的诊断数据来识别与输出数据相关联的问题；以及根据所识别出的问题生成控制信号以调整子系统的操作参数。
-
公开(公告)号：CN116325066A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180065676.7
申请日：2021-07-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 提供了一种用于检查样品的带电粒子束设备。该设备包括像素化电子检测器，该像素化电子检测器用于接收响应于发射的带电粒子束入射到样品上而生成的信号电子。像素化电子检测器包括以网格图案布置的多个像素。多个像素可以被配置为生成多个检测信号，其中每个检测信号与由像素化电子检测器的对应像素接收的信号电子相对应。该设备还包括控制器，该控制器包括被配置为执行以下操作的电路装置：基于由多个像素生成的检测信号来确定样品内的结构的形貌特征，并且基于样品的结构的形貌特征来标识样品内的缺陷。
-
公开(公告)号：CN114690591A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210458166.2
申请日：2017-11-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种确定形貌的方法，该方法包括：获得第一聚焦值，所述第一聚焦值从对未经图案化的衬底的图案化建模的计算光刻模型导出或从未经图案化的衬底上的图案化层的测量导出；获得第二聚焦值，所述第二聚焦值从具有形貌的衬底的测量导出；和根据第一聚焦值和第二聚焦值确定所述形貌的值。
-
-
公开(公告)号：CN117501402A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280042746.1
申请日：2022-05-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/24
Abstract: 提供了用于使用反馈回路来调整束电流的装置、系统和方法。在一些实施例中，系统104可以包括：第一阳极孔120b，被配置为在样品170的检查期间测量发射束161的电流，其中该第一阳极孔被定位在被配置为支持小于3×10‑10托的真空压力的环境中；以及控制器，包括被配置为使该系统执行以下操作的电路装置：当所测量的电流与设定点电流之间的差异超过阈值时生成反馈信号，并且在该样品的检查期间基于该反馈信号调整提取器电压源312的电压，使得发射束的调整后的电流与该设定点电流之间的差异低于该阈值。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.021 seconds)
